[發明專利]光敏組合物清除液

有效

• 申請號: 200680004369.3
• 申請日: 2006-02-09
• 公開（公告）號: CN101116037A
• 公開（公告）日: 2008-01-30
• 發明（設計）人: 金田昌人;三河泰廣;寺尾浩一
• 申請（專利權）人: 昭和電工株式會社
• 主分類號: G03F7/26
• 分類號: G03F7/26;G03F7/16;G03F7/42;H01L21/027;G02B5/20;C09D9/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所
• 代理人: 林柏楠;劉金輝

1.一種光敏組合物清除液，該清除液是一種用于含顏料的光敏組合物的清除液，其特征在于該清除液包含：

(1)95-70質量％的亞烷基二醇單烷基醚，和

(2)5-30質量％的芳烴。

2.一種光敏組合物清除液，該清除液是一種用于含顏料的光敏組合物的清除液，其特征在于該清除液包含：

(1)85-20質量％的亞烷基二醇單烷基醚，

(2)5-30質量％的具有9個或更多碳原子的芳烴，和

(3)10-75質量％的至少一種選自亞烷基二醇單烷基醚羧酸酯、烷氧基羧酸酯、脂環族酮和乙酸酯的溶劑。

3.一種光敏組合物清除液，該清除液是一種用于含顏料的光敏組合物的清除液，其特征在于該清除液包含：

(1)85-20質量％的亞烷基二醇單烷基醚，

(2)5-30質量％的具有9個或更多碳原子的芳烴，和

(3)10-75質量％的至少一種選自亞烷基二醇單烷基醚羧酸酯、烷氧基羧酸酯和脂環族酮的溶劑。

4.一種光敏組合物清除液，該清除液是一種用于含顏料的光敏組合物的清除液，其特征在于該清除液包含：

(1)85-40質量％的亞烷基二醇單烷基醚，

(2)5-30質量％的具有9個或更多碳原子的芳烴，和

(3)10-45質量％的至少一種選自乙酸酯的溶劑。

5.如權利要求1-4中任一項所述的光敏組合物清除液，其特征在于所述芳烴是沸點為150-250℃的烷基苯。

6.如權利要求1-5中任一項所述的光敏組合物清除液，其特征在于所述亞烷基單烷基醚為選自下述的至少一種：乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、二甘醇單甲醚、二甘醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、雙丙甘醇單甲醚、3-甲氧基丁醇和3-甲基-3-甲氧基丁醇。

7.如權利要求2、3、5或6所述的光敏組合物清除液，其特征在于所述亞烷基二醇單烷基醚羧酸酯是選自下述的至少一種：丙二醇單甲醚乙酸酯、雙丙甘醇單甲醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基丁酯和乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯。

8.如權利要求2、3、5或6所述的光敏組合物清除液，其中烷氧基羧酸酯是選自丙酸3-甲氧基甲酯和丙酸3-乙氧基乙酯的至少一種。

9.如權利要求2、3、5或6所述的光敏組合物清除液，其特征在于所述脂環族酮是選自環己酮、環戊酮和甲基環己酮的至少一種。

10.如權利要求2或4-6中任一項所述的光敏組合物清除液，其特征在于所述乙酸酯是選自下述的至少一種：乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯、乙酸正戊酯、乙酸異戊酯和乙酸仲戊酯。

11.如權利要求1-10中任一項所述的光敏組合物清除液，其用于清除含顏料的丙烯酸型光敏組合物。

12.如權利要求1-11中任一項所述的光敏組合物清除液，其用于在曝光之前清除含顏料的光敏組合物。

13.一種利用如權利要求1-12中任一項所述的光敏組合物清除液清除含顏料的光敏組合物的設備。

14.利用如權利要求13所述的設備獲得的濾色片。

15.一種裝配有如權利要求14所述的濾色片的設備。

16.一種基片，其中已經利用如權利要求1-12中任一項所述的光敏組合物清除液從該基片上除去含顏料的著色光敏組合物。