[發(fā)明專利]使導電層圖形化的方法、制備偏振片的方法以及使用該方法制備的偏振片

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680004176.8
• 申請日: 2006-06-13
• 公開（公告）號: CN101116018A
• 公開（公告）日: 2008-01-30
• 發(fā)明（設計）人: 金德柱;韓尚澈;金鐘勛
• 申請（專利權）人: LG化學株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30
• 代理公司: 北京金信立方知識產(chǎn)權代理有限公司
• 代理人: 朱梅;徐志明

技術領域

本發(fā)明涉及一種使導電層圖形化的方法，一種制備偏振片的方法 以及一種使用該方法制備的偏振片。

本申請要求向韓國知識產(chǎn)權局于2005年6月13日提交的韓國專 利申請?zhí)?0-2005-0050416，以及于2006年1月10日提交的韓國專利 申請?zhí)?0-2006-0002769的申請日的權益，其公開在此全部引入作為參 考。

背景技術

偏振片是一種從非偏振光，如自然光中提取具有特定振動方向的 線性偏振光的光學元件。偏振片用于如太陽鏡、照相機的濾光片、運 動護目鏡、汽車的前燈和顯微鏡的偏振膜的廣泛領域。近來，偏振片 在液晶顯示器的應用已經(jīng)增加。

在圖1中，作為偏振片的例子的納米格柵偏振片使用導電納米格 柵產(chǎn)生偏振作用。然而，因為復雜的制備工藝、低效率和難于制備具 有大面積的偏振片，所以不可能將常規(guī)納米格柵偏振片用于液晶顯示 器。

詳細地，一般使用下述兩種方法制備常規(guī)納米格柵偏振片。

圖3圖解說明了一種方法。根據(jù)該方法，在如玻璃或石英的無機 基板上形成導電金屬層，以及在導電金屬層上形成光致抗蝕劑層。接 著，使用光掩膜對光致抗蝕劑層進行選擇性的曝光并顯影從而形成圖 形。隨后，使用圖形化的光致抗蝕劑層刻蝕層疊于光致抗蝕劑層下面 的導電金屬層，以使導電金屬層圖形化。隨后，將光致抗蝕劑層除去。

圖4示出了另一種方法。根據(jù)該方法，在無機基板上形成導電金 屬層，以及在導電金屬層上形成光致抗蝕劑層。接著，使用壓模擠壓 光致抗蝕劑層使其變形，曝光和顯影以形成圖形。隨后，使用圖形化 的光致抗蝕劑層刻蝕層疊于光致抗蝕劑層下面的導電金屬層，以使導 電金屬層圖形化，然后將光致抗蝕劑層除去。

如上所述，制備納米格柵偏振片的常規(guī)方法的問題在于，必須進 行導電金屬層上的光致抗蝕劑層的形成、光致抗蝕劑層的圖形化以及 光致抗蝕劑層的去除，以使導電金屬層圖形化，因此，工藝復雜并且 制備成本高。而且，由于常規(guī)方法中使用的光掩膜或壓模使用電子束 或X射線制備，所以沒有選擇只能制備具有小面積的偏振片。因此， 不可能使用常規(guī)方法制備具有大面積的納米格柵偏振片。

發(fā)明內容

技術問題

本發(fā)明人證實，當使用塑模法(plastic?molding?process)，如熱模塑 或光固化法，代替常規(guī)刻蝕法使樹脂圖形化以形成凹槽和突起，并將 導電填充材料涂敷在樹脂層上，從而利用凹槽和突起的立體形狀形成 圖形時，可防止由刻蝕法引起的污染和導電性原料的浪費，并且可以 以低成本通過簡單的方法使導電層圖形化。本發(fā)明人還證實，當使用 通過立體光刻法制備的壓模以在樹脂上形成凹槽和突起時，可大面積 地使導電層有效圖形化，從而可制備具有大面積的納米格柵偏振片。

因此，本發(fā)明的目的是提供一種使導電層圖形化的方法，一種使 用該方法制備偏振片的方法，一種使用該方法制備的偏振片以及一種 具有該偏振片的顯示器件。

技術方案

本發(fā)明的一個實施方式提供了一種使導電層圖形化的方法，其包 括(a)使樹脂層圖形化以形成凹槽和突起，以及(b)在所述樹脂層上涂敷 導電填充材料，從而利用圖形化的樹脂層上凹槽和突起的立體形狀形 成圖形。

本發(fā)明的另一個實施方式提供了一種制備偏振片的方法，其包括(a) 使樹脂層圖形化以形成凹槽和突起，以及(b)在所述樹脂層上涂敷導電 填充材料，以利用圖形化的樹脂層上的凹槽和突起的立體形狀形成圖 形。

本發(fā)明的另一個實施方式提供了一種偏振片，所述偏振片包括圖 形化以形成凹槽和突起的樹脂層以及涂敷以利用樹脂層上的凹槽和突 起的立體形狀形成圖形的導電填充材料。

本發(fā)明的另一個實施方式提供了一種具有所述偏振片的顯示器 件。

附圖說明

參照附圖，通過詳細描述其優(yōu)選實施方式，本發(fā)明的上述和其它 特征及優(yōu)點將變得更顯而易見，其中：

圖1示意性地說明了納米格柵偏振片的工作機理；

圖2為常規(guī)納米格柵偏振片的剖面圖；

圖3圖解說明了使用光掩膜曝光和刻蝕法的常規(guī)納米格柵偏振片 的制備；

圖4圖解說明了使用納米壓印和刻蝕法的常規(guī)納米格柵偏振片的 制備；