[發(fā)明專利]氧化鋯增韌氧化鋁成分及其在離子和電子光學(xué)系統(tǒng)中使用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680004140.X | 申請(qǐng)日： | 2006-02-08 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101120431A | 公開（公告）日： | 2008-02-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 羅薩里奧·曼尼諾;朱塞普·科波拉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 珀金埃爾默LAS公司 |
| 主分類號(hào)： | H01J49/04 | 分類號(hào)： | H01J49/04;C04B35/119 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人： | 馬高平;曲瑩 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氧化鋯 氧化鋁 成分 及其 離子 電子光學(xué) 系統(tǒng) 使用 | ||
1.一種離子光學(xué)系統(tǒng)，其包括：
用于電離一個(gè)或多個(gè)化合物的電離器，所述電離器包括多個(gè)組件；
用于分離所述一個(gè)或多個(gè)化合物的離子的質(zhì)量分離器，所述質(zhì)量分離器包括多個(gè)組件；以及
用于識(shí)別所述一個(gè)或多個(gè)化合物的檢測(cè)器，所述檢測(cè)器包括多個(gè)組件，
其中，至少所述電離器、所述質(zhì)量分離器和所述檢測(cè)器之一中的多個(gè)組件中的至少一個(gè)組件包括氧化鋯和氧化鋁成分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述成分包括至少5％體積的氧化鋯。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述成分包括至少20％體積的氧化鋯。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述成分包括至少50％體積的氧化鋯。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述成分基本上由30％體積的氧化鋯和70％體積的氧化鋁組成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述成分基本上由50％體積的氧化鋯和50％體積的氧化鋁組成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)組件是用于電隔離一個(gè)或多個(gè)其它組件的間隔物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)組件是所述電離器的結(jié)構(gòu)桿。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)組件是所述質(zhì)量分離器的一個(gè)或多個(gè)四極的支架。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)組件是絕緣珠。
11.一種離子光學(xué)系統(tǒng)，其包括：
用于電離一個(gè)或多個(gè)化合物的電離器，所述電離器包括至少一個(gè)結(jié)構(gòu)桿、至少一個(gè)間隔物和用于隔離所述電離器的組件的至少一個(gè)珠；
用于分離所述一個(gè)或多個(gè)化合物的離子的質(zhì)量分離器，所述質(zhì)量分離器包括至少一個(gè)四極和至少一個(gè)用于所述四極的支架；以及
用于識(shí)別所述一個(gè)或多個(gè)化合物的檢測(cè)器；
其中所述至少一個(gè)結(jié)構(gòu)桿、至少一個(gè)間隔物、至少一個(gè)珠和至少一個(gè)支架中的至少一個(gè)包括氧化鋯和氧化鋁成分。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述成分包括至少5％體積的氧化鋯。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述成分包括至少20％體積的氧化鋯。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述成分包括至少50％體積的氧化鋯。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述成分基本上由30％體積的氧化鋯和70％體積的氧化鋁組成。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的離子光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述成分基本上由50％體積的氧化鋯和50％體積的氧化鋁組成。
17.一種隔離離子光學(xué)系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)組件的方法，其包括以下步驟：
提供用于電離一個(gè)或多個(gè)化合物的電離器，所述電離器包括多個(gè)組件；
提供用于分離所述一個(gè)或多個(gè)化合物的離子的質(zhì)量分離器，所述質(zhì)量分離器包括多個(gè)組件；
提供用于識(shí)別所述一個(gè)或多個(gè)化合物的檢測(cè)器，所述檢測(cè)器包括多個(gè)組件；以及
提供用于隔離所述電離器、所述質(zhì)量分離器和所述檢測(cè)器中至少之一的多個(gè)組件中的至少一個(gè)組件的至少一個(gè)隔離器，所述隔離器包括氧化鋯和氧化鋁成分。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述成分包括至少20％體積的氧化鋯。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述成分基本上由30％體積的氧化鋯和70％體積的氧化鋁組成。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述隔離器包括間隔物、珠和支架中的至少一個(gè)。
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