[發(fā)明專利]高濃度滲碳·低應(yīng)變淬火部件及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680004112.8 | 申請(qǐng)日: | 2006-02-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101115859A | 公開(公告)日: | 2008-01-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 町田功;安部壽士;福島壽夫;堀切浩司 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 帕卡熱處理工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23C8/22 | 分類號(hào): | C23C8/22;C23C8/80;C21D1/06;C21D9/00;C22C38/00;C22C38/22 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 徐迅 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 濃度 滲碳 應(yīng)變 淬火 部件 及其 制造 方法 | ||
1.高濃度滲碳·低應(yīng)變淬火部件的制造方法,其特征在于,包括一次處理和后 續(xù)的二次處理,一次處理為通過真空滲碳(低壓滲碳)方法,將機(jī)械構(gòu)造用鋼部件加 熱至奧氏體范圍的溫度,使共析碳濃度以上的碳固溶在該部件的表層部之后,再將 該部件以3~15℃/秒的冷卻速度從奧氏體范圍的溫度冷卻到A1轉(zhuǎn)變點(diǎn)以下的溫度 進(jìn)行淬火,使微細(xì)碳化物及/或該碳化物的核生成在上述部件的表層部,二次處理 為使該部件升溫至奧氏體范圍的溫度并使其均熱后進(jìn)行迅速淬火,使微細(xì)碳化物以 有效硬化深度比為10~30%的范圍析出在最表層部。
2.如權(quán)利要求1所述的上述部件的制造方法,其特征在于,在上述二次處理中, 在部件的表層部進(jìn)行追加滲碳處理。
3.如權(quán)利要求2所述的上述部件的制造方法,其特征在于,在上述二次處理中, 使微細(xì)碳化物在上述部件的表層部析出,在該表層部形成以馬氏體為主的組織,其 中包括一部分托氏體和殘留的奧氏體等的混合組織,該層的最表層部(A部)與比A 部更內(nèi)側(cè)的層(B部)與比B部更內(nèi)側(cè)的層(C部)的各奧氏體結(jié)晶粒度的微細(xì)度順序 為A≥C≥B。
4.高濃度滲碳·低應(yīng)變淬火部件,其特征在于,表層部為以馬氏體為主的組織, 其中包含一部分托氏體和殘留的奧氏體等的混合組織,該層的奧氏體結(jié)晶粒度的微 細(xì)度順序在最表層部(A部)與比A部更內(nèi)部的層(B部)與比B部更內(nèi)部的層(C部) 中為A≥C≥B。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于帕卡熱處理工業(yè)株式會(huì)社,未經(jīng)帕卡熱處理工業(yè)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200680004112.8/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C8-00 金屬材料表面中僅滲入非金屬元素的固滲
C23C8-02 .被覆材料的預(yù)處理
C23C8-04 .局部表面的處理,例如使用掩蔽物的
C23C8-06 .使用氣體的
C23C8-40 .使用液體,例如鹽浴、懸浮液的
C23C8-60 .使用固體,例如粉末、膏劑的





