[發明專利]防止或減輕工業方法中鋁硅酸鹽污垢的方法

有效

• 申請號: 200680004110.9
• 申請日: 2006-02-01
• 公開（公告）號: CN101115776A
• 公開（公告）日: 2008-01-30
• 發明（設計）人: M·L·泰伊爾;H·T·陳;D·P·斯皮策;H·I·海特納
• 申請（專利權）人: CYTEC技術有限公司
• 主分類號: C08F8/00
• 分類號: C08F8/00;C08F230/08
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 項丹

1.一種用于減少堿工業過程中鋁硅酸鹽污垢的組合物，該組合物包含 符合以下通式的聚合物：

式中，w＝1-99.9％，x＝0.1-50％，y＝0-50％，z＝0-50％；Q＝C₁-C₁₀烷基、 芳基、酰胺、丙烯酸酯、醚、COXR，其中X＝O或NH，R＝H、Na、K、 NH₄、C₁-C₁₀烷基或芳基，或者任何其它取代基；X＝NH、NP，其中P＝C₁-C₃烷基或芳基，或者O；R′＝C_1-10烷基或芳基；V″＝H、C₁-C₃烷基、芳基、 Na、K或NH₄，或者形成酸酐環；R″＝H、C₁-C₃烷基、芳基、Na、K或 NH₄；D＝NR1₂或OR1，其中R1＝H、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₂₀烯基或芳基，條 件是不要求所有R、R″、V″和R1基團都必須相同。

2.如權利要求1所述的組合物，其特征在于，所述組合物包含選自以 下通式的聚合物：

式中，w＝1-99.9％，x＝0.1-50％，y＝0-50％，z＝0-50％，

Q是苯基；和通式

式中，w＝1-99.9％，x＝0.1-50％，y1+Y2＝0-50％，y1和y2＝0-50％，z＝0-50％， Q是苯基。

3.一種用于減少堿工業過程中鋁硅酸鹽污垢的組合物，該組合物包含 一種聚合物，該聚合物是具有含有通式I的基團的側鏈基或端基的多糖：

通式I

--Si(OR″)₃

式中R″＝Na、K或NH₄。

4.如權利要求3所述的組合物，其特征在于，所述多糖是羥乙基纖維 素衍生物。

5.如權利要求4所述的組合物，其特征在于，所述多糖是羥乙基纖維 素衍生物，并且與3-環氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷反應。

6.一種用于減少工業過程中鋁硅酸鹽污垢的組合物，該組合物包含一 種聚合物，該聚合物是由通式V的不飽和單體得到的均聚物或共聚物：

通式V：

式中，P＝H、C₁-C₃烷基、-CO₂R″、-CONHR

R＝C₁-C₁₀烷基、芳基、

R′＝H、C_1-3烷基或芳基，

X＝O、NH或NR，

R″＝H、C₁-C₃烷基、芳基、Na、K或NH₄。

7.如權利要求6所述的組合物，其特征在于，所述組合物包含一種由 通式V的單體和一種或多種選自下組的可聚合的單體得到的聚合物：乙烯 基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酰胺、N-取代的丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸及其鹽或 酯、以及馬來酰亞胺。

8.一種用于減少工業過程中鋁硅酸鹽污垢的組合物，該組合物包含由 通式VI的單體得到的均聚物或共聚物：

通式VI

式中，P＝H、C₁-C₃烷基、-CO₂R″、-CONHR

R＝C₁-C₁₀烷基、芳基、

R′＝H、C_1-3烷基或芳基，

X＝O、NH或NR，

R″＝Na、K或NH₄。