[發明專利]在透明基底上設置防霜薄膜的方法

無效

• 申請號: 200680003647.3
• 申請日: 2006-01-30
• 公開（公告）號: CN101111369A
• 公開（公告）日: 2008-01-23
• 發明（設計）人: H·格魯索特－恩吉姆;M·－I·沃奇;Y·德馬斯;G·朗錢普特
• 申請（專利權）人: 法國圣戈班玻璃廠
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;B32B33/00;C09K3/18;C03C17/32
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 劉維升;林森

1.在基底上粘結軟薄膜的方法，該方法包括在薄膜和基底之間置入 足夠量的液體，使得能夠在借助于刮刀將薄膜施加到基底上之后，在 薄膜和基底之間不夾入任何氣泡，其特征在于，在低于0℃的基底溫度 下該液體不結霜。

2.按照權利要求1的方法，其特征在于，在最高為-5℃的基底溫 度下，該液體不結霜。

3.按照權利要求2的方法，其特征在于，在最高為-10℃的基底溫 度下，該液體不結霜。

4.按照權利要求1～3中之一項的方法，其特征在于，在薄膜和基 底之間置入足夠量的液體之前，要先除掉粘附在基底上的所有顆粒， 對基底進行清洗和擦干。

5.按照權利要求1或4中之一項的方法，其特征在于，用所述足夠 量的液體來潤濕軟薄膜與基底相粘結的表面。

6.按照權利要求1～5中之一項的方法，其特征在于，軟薄膜要粘 結到基底上的表面包括粘結層，該層任選帶有在將其粘結到基底上之 前要除去的保護膜。

7.按照權利要求1～6中之一項的方法，其特征在于，該軟薄膜同 與粘結在基底上的面相對的表面被有效量的液體潤濕，以使得在將該 薄膜施加在該基底操作的過程中刮刀容易在該表面上刮擦。

8.按照權利要求1～7中之一項的方法，其特征在于，該軟薄膜同 與粘結在基底上的面相對的表面帶有在將軟薄膜粘結在基底上之后要 除去的保護膜。

9.按照權利要求1～8中之一項的方法，其特征在于，在薄膜和基 底之間置入的液體含有有效量的降低結晶溫度的化合物，比如鹽，特 別是KCl、NaCl或相當的呈溶液狀的化合物和/或醇和/或任選呈水溶 液的適當親水聚合物、共聚物、預聚物或低聚物，還任選含有一種或 幾種表面活性劑。

10.通過置入足夠量的液體而完全不夾入氣泡而得到的互相粘結的 基底和軟薄膜，其特征在于，在將該基底和薄膜從溫度至少等于0℃， 殘留濕度至少為25％的大氣中轉移到其溫度將低于0℃的大氣中的情 況下，將持久性地不會結霜。

11.按照權利要求10的基底和軟薄膜，其特征在于，在將該基底和 薄膜從溫度至少等于0℃，殘留濕度至少為25％的大氣中轉移到其溫 度將至多-5℃的大氣中的情況下，將持久性地不會結霜。

12.按照權利要求11的基底和軟薄膜，其特征在于，在將該基底和 薄膜從溫度至少等于0℃，殘留濕度至少為25％的大氣中轉移到其溫 度將至多-10℃的大氣中的情況下，將持久性地不會結霜。

13.按照權利要求10～12中之一項的基底和軟薄膜，其特征在于， 所述大氣是在10～35℃，特別是15～30℃，更特別是23～27℃的溫度 下。

14.按照權利要求10～13中之一項的基底和軟薄膜，其特征在于， 它們形成透明的組裝體。

15.按照權利要求10～14中之一項的基底和軟薄膜，其特征在于， 該薄膜是防結霜的和/或疏水的和/或親水的和/或抗污染-自清潔(光催 化)的和/或反射光線或熱輻射，防日光，低輻射的和/或至少部分可著 色的和/或導電-加熱的和/或半導體和/或抗靜電的和/或電發光的。

16.按照權利要求10～15中之一項的基底和軟薄膜，其特征在于， 該薄膜是防結霜的，而且當溫度至多-10℃時，將其放置在溫度至少 等于0℃，殘留濕度至少等于25％的大氣中，在至少12秒的過程中不 結霜。

17.按照權利要求16的基底和軟薄膜，其特征在于，該薄膜是防結 霜的，而且當溫度至多-15℃時，將其放置在溫度至少等于0℃，殘留 濕度至少等于25％的大氣中，在至少12秒的過程中不結霜。

18.按照權利要求17的基底和軟薄膜，其特征在于，該薄膜是防結 霜的，而且當溫度至多-20℃時，將其放置在溫度至少等于0℃，殘留 濕度至少等于25％的大氣中，在至少12秒的過程中不結霜。