[發(fā)明專利]自潔地板系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200680003574.8 | 申請日: | 2006-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN101111650A | 公開(公告)日: | 2008-01-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | J·麥克萊恩;D·L·克里斯琴 | 申請(專利權(quán))人: | 薩尼地面公司 |
| 主分類號: | E04C2/52 | 分類號: | E04C2/52 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 朱德強 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 地板 系統(tǒng) | ||
1.一種包括至少一個模塊的自潔地板系統(tǒng),所述模塊包括:
具有至少一個斜坡和排水出口的排水盤,所述斜坡向著所述排水出口向下傾斜;以及
形成所述排水盤周邊的至少一部分的至少一個側(cè)壁和至少一個端壁,所述端壁具有至少一個流體入口,所述側(cè)壁具有至少一個被構(gòu)造用于接收來自流體入口的沖洗流體和引導(dǎo)沖洗流體朝向排水出口流下斜坡的排出口。
2.如權(quán)利要求1所述的自潔地板系統(tǒng),其包括多個模塊,每一個模塊被構(gòu)造成以水平排列的方式可彼此相連接。
3.如權(quán)利要求1所述的自潔地板系統(tǒng),其中所述側(cè)壁包括延伸穿過其的中空通道,所述中空通道與流體入口流體連通并且構(gòu)造成將沖洗流體傳送到所述排出口。
4.如權(quán)利要求1所述的自潔地板系統(tǒng),還包括安置在所述排水出口附近的且能用于阻止固定廢物進入所述排水出口的可拆卸的排水籃。
5.如權(quán)利要求1所述的自潔地板系統(tǒng),其中所述模塊還包括至少一個安裝在所述排水盤上且被構(gòu)造成可支撐其上站立的人員和允許廢物穿過的地板柵板。
6.如權(quán)利要求1所述的自潔地板系統(tǒng),其中所述模塊還包括至少一個安裝在排水溝道上方且被構(gòu)造成防止預(yù)定尺寸的廢物進入所述排水溝道的濾網(wǎng)架。
7.如權(quán)利要求1所述的自潔地板系統(tǒng),其中所述排水盤包括圍繞所述排水盤周邊延伸且被構(gòu)造用于支撐所述排水盤的周邊凸緣。
8.如權(quán)利要求1所述的自潔地板系統(tǒng),還包括至少一個與流體入口流體連通且被構(gòu)造成可將加壓沖洗流體傳送到流體入口的壓力槽。
9.一種包括至少一個模塊的自潔地板系統(tǒng),所述模塊包括:
排水盤部分,其包括:
一對斜坡部分;以及
布置在斜坡部分之間的溝道部分,所述溝道部分被構(gòu)造成可拆卸地連接到所述斜坡部分,所述溝道部分朝著排水出口向下傾斜;
其中每一個斜坡部分取向為朝著所述溝道部分向下傾斜;以及
至少一個排出口,其安裝在斜坡部分附近且用于將沖洗流體噴射到所述斜坡部分上,使得廢物朝著所述溝道部分沖下所述斜坡部分,并且從所述溝道部分沖到所述排水出口。
10.如權(quán)利要求9所述的自潔地板系統(tǒng),其中所述排水出口位于所述溝道部分的一個端部附近,所述溝道部分朝著所述排水出口向下傾斜。
11.如權(quán)利要求9所述的自潔地板系統(tǒng),還包括:
至少一個端板;
其中每一個模塊包括多個首尾相連且具有安裝在其至少一個端部的端板的排水盤部分。
12.如權(quán)利要求11所述的自潔地板系統(tǒng),其中所述斜坡部分和所述溝道部分被形成為單獨元件。
13.如權(quán)利要求9所述的自潔地板系統(tǒng),其包括多個所述模塊,每一個所述模塊被構(gòu)造成與另一個首尾相連。
14.如權(quán)利要求9所述的自潔地板系統(tǒng),其中每一個所述斜坡部分包括至少一個布置在其下方且構(gòu)造成在基底上方支撐所述斜坡部分的肋構(gòu)件。
15.如權(quán)利要求9所述的自潔地板系統(tǒng),其中所述模塊還包括至少一個安裝在所述排水盤部分上且被構(gòu)造成可支撐站立在其上的人員和允許廢物穿過的地板柵板。
16.如權(quán)利要求9所述的自潔地板系統(tǒng),其中所述模塊還包括至少一個安裝在所述溝道部分上方且被構(gòu)造成防止預(yù)定尺寸的廢物進入所述排水溝道的濾網(wǎng)架。
17.一種形成于基底的自潔地板系統(tǒng),其包括:
具有一對朝向排水溝道向下傾斜的斜坡的排水盤,所述排水溝道朝向排水出口向下傾斜,所述排水盤限定出具有圍繞其延伸的周邊凸緣的周邊;
沿著所述排水盤的一部分延伸且布置在至少一個所述斜坡上方的歧管;以及
噴射噴嘴,其流體連接到所述歧管且可用于噴射沖洗流體流下斜坡、流向所述排水溝道和所述排水出口。
18.如權(quán)利要求17所述的模塊,其中所述基底是混凝土的。
19.如權(quán)利要求17所述的模塊,其中使用構(gòu)造為凸模結(jié)構(gòu)的可拆卸鑲件在所述基底中形成所述排水盤。
20.如權(quán)利要求17所述的模塊,其中所述鑲件是泡沫材料的。
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