[發明專利]用于基于全局優化的無掩模光刻光柵化技術的方法和系統

無效

• 申請號: 200680003428.5
• 申請日: 2006-01-27
• 公開（公告）號: CN101111850A
• 公開（公告）日: 2008-01-23
• 發明（設計）人: 阿扎特·拉伯特;謝爾曼·伯特尼;溫塞勞·塞布哈爾
• 申請（專利權）人: ASML控股股份有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;G02F1/1335;G02F1/135;G21K5/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 齊曉寰

1.一種用于確定光刻系統中的空間光調制器SLM像素的狀態的方法，所述光刻系統被配置用于印刷所需圖案，所述方法包括：

確定與將要由光刻系統印刷的圖案的理想掩模相關聯的衍射級；以及

對SLM像素的狀態進行配置以匹配與所需圖案有關的已確定衍射級。

2.根據權利要求1的方法，其中所述衍射級表示與所述SLM像素相關聯的特征。

3.根據權利要求1的方法，其中所述像素狀態被配置用于實質上匹配所需衍射圖案。

4.根據權利要求3的方法，其中所述匹配發生在所述光刻系統的擴展投影光學器件PO內部。

5.根據權利要求4的方法，其中所述確定包括描述所述PO內部的光瞳場的非線性表達。

6.根據權利要求4的方法，其中所述確定包括線性灰色調近似。

7.根據權利要求6的方法，其中所述灰色調近似是像素狀態參數的函數。

8.根據權利要求1的方法，其中所述配置對與SLM的調制特征相關聯的約束進行補償。

9.根據權利要求1的方法，其中所述衍射級是PO數值孔徑、擴展光瞳的坐標、以及照射波長的函數。

10.一種執行光刻系統中作為理想掩模光瞳的函數的空間光調制器SLM像素的光學光柵化的方法，用于對所需圖案進行光柵化和分解，所述方法包括：

產生與基本物體相對應的光瞳場衍射級，所述基本物體與所需圖案相關聯：

確定針對全部SLM像素的灰色調，以便在光刻系統的基本光瞳內最優地近似所產生的衍射級；以及

選擇每一個像素的狀態以對指定給像素的相應灰色調進行仿真。

11.根據權利要求10的方法，其中所述選擇包括：(i)確定所述灰色調的復數值分布；以及(ii)確定灰色調矩陣值，以通過所述基本光瞳將所述灰色調的復數值分布映射到光瞳場中。

12.根據權利要求10的方法，其中所述基本物體包括多邊形的組合。

13.根據權利要求10的方法，其中所述確定包括復數值技術的操作。

14.根據權利要求10的方法，其中所述狀態包括來自包括傾斜角和電壓值組成的組中的至少一個。

15.一種用于確定光刻系統中的空間調制器SLM像素狀態的設備，所述光刻系統被配置用于印刷所需圖案，包括：

用于確定與將要由光刻系統印刷的圖案的理想掩模相關聯的衍射級的裝置；以及

用于對SLM像素的狀態進行配置以匹配與所需圖案有關的已確定衍射級的裝置。

16.根據權利要求15的設備，其中所述衍射級表示與所述SLM像素相關聯的特征。

17.根據權利要求15的設備，其中所述像素狀態被配置用于實質上匹配所需衍射圖案。

18.根據權利要求17的設備，其中所述匹配發生在所述光刻系統的擴展投影光學器件PO內部。

19.根據權利要求18的設備，其中所述確定包括描述所述PO內部的光瞳場的非線性表達。

20.根據權利要求18的設備，其中所述確定包括線性灰色調近似。

21.一種用于執行光刻系統中作為理想掩模光瞳的函數的空間光調制器SLM像素的光學光柵化的設備，用于對所需圖案進行光柵化和分解，所述設備包括：

用于產生與基本物體相對應的光瞳場衍射級的裝置，所述基本物體與所需圖案相關聯：

用于確定針對全部SLM像素的灰色調的裝置，以便在光刻系統的基本光瞳內最優地近似所產生的衍射級；以及

用于選擇每一個像素的狀態以對指定給像素的相應灰色調進行仿真的裝置。

22.一種計算機可讀介質，用于承載由一個或更多處理器執行的一個或更多指令的一個或更多序列，用于執行確定光刻系統中的空間光調制器SLM像素的狀態的方法，所述光刻系統被配置用于印刷所需圖案，當由一個或更多處理器執行所述指令時，引起所述一個或更多處理器執行以下步驟：

確定與將要由光刻系統印刷的圖案的理想掩模相關聯的衍射級；以及

對SLM像素的狀態進行配置以匹配與所需圖案有關的已確定衍射級。