[發明專利]改進型柔印處理機有效
| 申請號: | 200680003178.5 | 申請日: | 2006-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN101107126A | 公開(公告)日: | 2008-01-16 |
| 發明(設計)人: | 加里·T·馬克哈特;賴安·維斯特 | 申請(專利權)人: | 麥克德米德印刷方案股份有限公司 |
| 主分類號: | B41C3/08 | 分類號: | B41C3/08 |
| 代理公司: | 北京三幸商標專利事務所 | 代理人: | 劉激揚 |
| 地址: | 美國康*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 改進型 處理機 | ||
相關申請的交叉引用
本申請是2004年3月29日申請的共同未決專利申請序列號10/811,763的部分延續申請,該申請的整個主題在此被結合作為參考。
技術領域
本發明旨在提供一種改進型柔印處理機以及采用該改進型柔印處理機的方法,從而增加被處理柔版印刷元件的類型和尺寸的靈活性。
背景技術
柔版印刷是一種用于大量印刷的常用印刷方法。柔版印刷用于在多種基底上進行印刷,例如紙、紙板原料、波紋紙板、膜、箔片以及疊層片。報紙和食品雜貨袋是重要的示例。僅通過柔版印刷就能夠經濟的印刷出粗糙表面和拉伸膜。柔版印刷版是一種凸紋板,其中成像部件凸出在空區之上。這種板給印刷者帶來了大量的好處,主要是其耐用性以及易于制造性。
雖然光敏聚合物印刷元件通常以“平”板形式來使用,但是在某些應用場合,使用連續圓柱形式的印刷元件例如連續圓雕(CITR)光敏聚合物滾筒是有利的。CITR光敏聚合物滾筒添加了數字成像、準確圖像對準、快速安裝的優點,而且在柔版印刷過程當中不用將板提起。CITR滾筒能夠應用于例如墻紙、裝飾紙以及禮品包裹紙等等的連續設計的柔版印刷當中,以及例如桌布等等的其它連續設計當中。CITR滾筒使得柔版印刷在印刷質量上比凹版印刷和平版印刷更具競爭力。
由制造商交付的典型柔版印刷版是一種多層體,其按照底墊或支撐層、一個或多個未曝光的光致固化層、保護層或滑膜以及覆蓋片的順序層疊而成。典型的CITR光敏聚合物滾筒通常包括滾筒載體(支撐層)以及位于該支撐層頂部的至少一個未曝光的光致固化層。
在膠版預壓印刷工業中,人們非常希望在顯影凸紋圖像時不用對印刷元件進行化學處理,從而可以從板上進行更加快速的壓印。執行了顯影步驟之后,從而利用熱量制備光敏聚合物印刷版,以及利用固化的和未固化的光敏聚合物之間的熔點溫差來對潛像進行顯影。該過程的基本參數都是公知的,例如在第5,279,697、5,175,072以及3,264,103號美國專利中,在已公開的美國專利申請US?2003/0180655以及U.S.2003/0211423中,以及在WO?01/88615、WO?01/18604和EP?1239329中所描述的那樣,以上每個專利的教義都整個的在此被結合作為參考。這些過程都不必使用顯影溶劑,從而不必在去除該溶劑上花費漫長的干燥版的時間。該過程的速度和效率都使得能夠用于印刷報紙和其它應用場合的柔版印刷版的制造過程當中,其中在這些應用場合快速的周轉時間和高生產率顯得尤為重要。
該光敏聚合層使得可以產生期望的圖像,以及提供印刷表面。通常使用的光敏聚合物包含粘結劑、單體、光引發劑以及其它性能添加劑。可以用于本發明的實踐中的光敏聚合合成物包括在2003年1月29日提交的第10/353,446號美國專利申請中所描述的那些光敏聚合合成物,該專利申請的教義整個在此被結合作為參考。可以采用多種光敏聚合物來作為粘結劑,例如以聚苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯、聚苯乙烯-丁二烯-苯乙烯、聚亞安酯和/或硫羥烯(thiolenes)為基的光敏聚合物。優選的粘結劑是聚苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯、以及聚苯乙烯-丁二烯-苯乙烯,尤其是前述化合物的塊共聚物。
光敏聚合物的合成物應當滿足這樣的條件,即,在固化和未固化聚合物之間存在明顯的熔點溫差。正是這個溫差使得可以在加熱時在光敏聚合物中產生圖像。在選定溫度上,未固化的光敏聚合物(也就是,未接觸到光化學輻射的那部分光敏聚合物)將熔化或者基本上軟化,而固化光敏聚合物將保持固態和原樣。因此,該熔點溫差使得該未固化光敏聚合物被選擇性去除從而產生圖像。
印刷元件被選擇性曝光到光化學輻射。通常以三種相關方式之一來完成選擇性曝光。在第一種方式中,具有透明區域和基本不透明區域的照相底片用于選擇性阻礙光化學輻射到該印刷版部件。在第二種方式中,利用光化學輻射(基本)不透明層來對該光敏聚合層進行涂層,其中該不透明層對于激光燒蝕也是敏感的。然后利用激光來燒蝕該光化學輻射不透明層的選定區域,從而在原位產生底片。然后通過該原位底片對印刷元件進行溢出曝光。在第三種方式中,利用光化學輻射的聚集束來選擇性曝光該光敏聚合物。以上三種可選方式都是可以接受的,適用標準是其能夠將該光敏聚合物選擇性曝光到光化學輻射當中從而選擇性固化該光敏聚合物的某些部分。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于麥克德米德印刷方案股份有限公司,未經麥克德米德印刷方案股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200680003178.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





