[發明專利]用于通過針孔光圈將物體光學成像到檢測裝置上的系統和方法

有效

• 申請號: 200680002785.X
• 申請日: 2006-01-19
• 公開（公告）號: CN101107616A
• 公開（公告）日: 2008-01-16
• 發明（設計）人: J·德賴伯霍爾茨;M·奧格斯泰;H·馬科;U·卡斯;D·法爾克
• 申請（專利權）人: 霍夫曼－拉羅奇有限公司
• 主分類號: G06K9/20
• 分類號: G06K9/20
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 原紹輝

1.一種用于光學成像位于物平面內的物體的系統，包括：

位于檢測平面內的檢測裝置，

用于將物體成像到檢測裝置的針孔光圈以及用于照明物體的照明 裝置，

其特征在于

在該照明裝置和該物平面之間設置光學衰減元件，這些光學衰減 元件基本補償因針孔光圈導致的系統固有成像缺陷，尤其是由針孔光 圈成像到檢測裝置上的物體圖像的系統固有周緣亮度降低。

2.如權利要求1所述的系統，

其特征在于

這些光學衰減元件能夠獲得檢測平面中的基本均勻系統固有亮度 分布。

3.如權利要求1或2所述的系統，

其特征在于

這些光學衰減元件改變通過照明裝置對物體的照明，以使得物體 中心區域接受的照度要低于物體的周緣區域。

4.如權利要求1至3之一所述的系統，

其特征在于

這些光學衰減元件是光圈結構的形式，包括低傳輸率的同心線和 高傳輸率的中間區域，它們之間的寬度和/或距離設計成使得物體的 中心區域接受的光強度要低于物體的周緣區域。

5.如權利要求1至4之一所述的系統，

其特征在于

該照明裝置包含若干單獨光源，在這些單獨光源前面設置光學衰 減元件，以使得通過疊加物平面中各光源的光強度，物體中心區域的 光強度要低于物體的周緣區域。

6.如權利要求1至5之一所述的系統，

其特征在于

這些光學衰減元件是具有一個或以上光圈結構的薄膜掩模的形 式。

7.如權利要求1至6之一所述的系統，

其特征在于

針孔光圈是薄膜掩模的形式，直徑優選為10至1000微米，更優 選為20至500微米，尤其優選為50至200微米。

8.如權利要求6或7所述的系統，

其特征在于

該物體通過反射光學方法成像到檢測裝置上，以及該針孔光圈集 成到如權利要求7所述的薄膜掩模中。

9.如權利要求1至8之一所述的系統，

其特征在于

該檢測裝置是光學傳感器元件，尤其是CCD元件或CMOS元件。

10.一種用于記錄和處理光學信息的系統，包括：

承載光學信息的物體，該光學信息尤其是光學圖樣或代碼的形 式，

如權利要求1至9之一所述的用于光學成像物體的系統，以及

評估裝置，該評估裝置記錄源自檢測裝置上的物體圖像的物體光 學信息，以及提供該信息以作進一步處理或顯示。

11.一種測試元件分析系統，包括：

測試元件，該測試元件承載光學信息尤其是關于測試類型、批號、 制造日期、校驗和或者用于校準作用的光學編碼信息，以及

評估裝置，該評估裝置包含根據權利要求10所述的用于記錄和 評估測試元件的光學信息的系統。

12.一種用于將位于物平面中的物體光學成像到位于檢測平面中 的檢測裝置上的方法，其中物體由照明裝置來進行照射，以及物體通 過針孔光圈成像到檢測裝置上，

其特征在于

光學衰減元件設置在照明裝置和物平面之間，該光學衰減元件基 本補償因針孔光圈導致的成像缺陷，尤其是由檢測裝置上的針孔光圈 形成的物體圖像亮度的系統固有周緣降低。