[發明專利]用于光掩模的大型玻璃基板及其制造方法、計算機可讀記錄介質以及母玻璃曝光方法有效
| 申請號： | 200680000217.6 | 申請日： | 2006-06-12 |
| 公開（公告）號： | CN101006021A | 公開（公告）日： | 2007-07-25 |
| 發明（設計）人： | 上田修平;柴野由紀夫;渡部厚;草開大介 | 申請（專利權）人： | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號： | C03C19/00 | 分類號： | C03C19/00;H01L21/027;G03F1/14 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 曲瑞 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 光掩模 大型 玻璃 及其 制造 方法 計算機 可讀 記錄 介質 以及 曝光 | ||
【說明書】：
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