[實用新型]一種新型結構的真空滅弧室

無效

• 申請號: 200620200931.7
• 申請日: 2006-11-16
• 公開（公告）號: CN201066650Y
• 公開（公告）日: 2008-05-28
• 發明（設計）人: 何躍
• 申請（專利權）人: 中國振華（集團）科技股份有限公司宇光分公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664;H01H9/30
• 代理公司: 貴陽中新專利商標事務所
• 代理人: 李大剛

1.一種新型結構的真空滅弧室，它包括絕緣外殼(1)，絕緣外殼(1)內設有動組件(2)，動組件(2)一端設有動觸頭(3)，動組件(1)中部依次套有波紋管屏蔽罩(4)、波紋管(5)和導向套(6)，導向套(6)與動端封接環(7)連接，動端封接環(7)的另一端與絕緣外殼(1)的一端焊接在一起；其特征在于：絕緣外殼(1)的另一端經端罩(8)與靜端封接環(9)焊接在一起，靜端封接環(9)中設有靜組件(10)，靜組件(10)的一端設有靜觸頭(11)，靜組件(10)的另一端從靜端封接環(9)穿出，靜組件(10)的中部與靜端封接環(9)連接。

2.根據權利要求1所述的新型結構的真空滅弧室，其特征在于：絕緣外殼(1)的端面直接與靜端封接環(9)焊接在一起，在靜端封接環(9)內設有屏蔽筒(12)。

3.根據權利要求2所述的新型結構的真空滅弧室，其特征在于：當動觸頭(3)與靜觸頭(11)處于分開狀態時，動觸頭(3)與靜觸頭(11)之間的間距(B)大于動觸頭(3)與靜端封接環(9)之間的間距(A)。

4.根據權利要求3所述的新型結構的真空滅弧室，其特征在于：動端封接環(7)、端罩(8)和靜端封接環(9)使用不銹鋼、無氧銅或電工純鐵制作。

5.根據權利要求1所述的新型結構的真空滅弧室，其特征在于：絕緣外殼(1)用陶瓷或玻璃材料制成，絕緣外殼(1)的外表面為波紋面或光面。