[實用新型]電鍍液容器

無效

• 申請號: 200620176025.8
• 申請日: 2006-12-27
• 公開（公告）號: CN200985363Y
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發明（設計）人: 許迪捷
• 申請（專利權）人: 逢御機械工業有限公司
• 主分類號: C25D17/02
• 分類號: C25D17/02
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 孫皓晨

技術領域

本實用新型涉及一種用來盛裝電鍍液的電鍍液容器。

背景技術

目前電鍍工業隨著各種輕重工業而逐漸發達，所謂電鍍加工就是一般泛指利用電解還原反應，在物體上鍍一層金屬薄膜的方法，由于電鍍后的物體表面具有保護兼裝飾效用，另外也提供其它特性，如高導電性、高度光反射性或機能性等等，所以電鍍工業相當受到重視；而電鍍加工進行時，是以一可導電的電極棒作為陽極，而施作物通常是作為陰極，當通入電流后，其電鍍液會產生金屬離子的游離現象，而由電鍍液中所流失的金屬離子，是由陽極的純金屬析出并補充，其電鍍液中的金屬離子會游向陰極，并在陰極的施作物上還原后，形成鍍著在施作物表面的一層金屬保護層。

請參閱圖1，為一般電鍍液容器的結構示意圖，如圖中所示，一般電鍍加工時，是將一作為陽極的電極棒20，與作為陰極的施作物30，分別放放置在一溶液槽10的兩相對側，再利用一電力供給裝置40分別電連接在電極棒20與施作物30，以便通入電流進行加工，由于這種溶液槽10的槽身部101與槽底部102是呈方形，因此，當電鍍液50通過管路103輸入溶液槽10時，其電鍍液50的流動方向會受到溶液槽10內部形狀的限制，而發生流動不順暢的情形，間接影響到電鍍的質量；又，當進行溶液槽10的清理時，必須先由槽底部102的排水孔104將電鍍液50排出，再進行清洗，以免槽底部102囤積有前次留下來的金屬離子，影響下次電鍍的質量，但是，呈方形的槽底部102與槽身部101無論在排水或是進行清洗時，都不容易將內部的電鍍液50或水分排出，常因為這樣的情況影響到下一次電鍍的質量，故有必要加以改良。

發明內容

針對現有技術的不足，本實用新型的目的在于：提供一種電鍍液容器，使電鍍液流動順暢。

為實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是：

一種電鍍液容器，供以盛裝電鍍加工時所使用的一電鍍液，其特征在于：其包括：一箱體；以及一溶液槽，組設在所述的箱體內部，所述的溶液槽的一槽身部與一槽底部是呈弧狀，并在所述的槽底部形成有復數個排水孔。

較佳的，上述技術方案還可以附加以下技術特征：

所述的箱體上是形成有一排水孔，并利用一管路連接所述的排水孔與所述的溶液槽的所述的排水孔。

所述的溶液槽內是組設有一入液管，以供將所述的電鍍液導入所述的溶液槽內。

所述的入液管是與所述的槽底部呈平行設置，并在所述的入液管的兩側，分別成型有復數組相對的出液孔。

所述的槽底部是與所述的排水孔呈倒錐狀。

與現有技術相比較，采用上述技術方案的本實用新型具有的優點在于：其主要是在一箱體內是組設有一溶液槽，而此溶液槽的槽身部與槽底部是呈弧狀設計，以使電鍍液由管路輸入時，其電鍍液可沿著槽身部與槽底部所形成的弧面，在溶液槽內產生循環流動的液體環流，而能夠提升電鍍時，電鍍液流動順暢，便于金屬離子均勻地施作在施作物上；又，利用呈弧形設計的槽身部與槽底部，在槽底部是形成有一排水孔，不但能夠便于將電鍍液排出，且以清水清洗時，也可容易將水分排出。

附圖說明

圖1，為一般電鍍液容器的結構示意圖；

圖2，為本實用新型的結構示意圖；

圖3，為本實用新型入液時的示意圖；

圖4，為本實用新型入液時另一視角的示意圖；

圖5，為本實用新型另一較佳實施例。

附圖標記說明：10-溶液槽；101-槽身部；102-槽底部；103-管路；104-排水孔；20-電極棒；30-施作物；40-電力供給裝置；50-電鍍液；60-電鍍液容器；601-箱體；6011-排水孔；602-溶液槽；6021-槽身部；6022-槽底部；6023-排水孔；6024-入液管；60241-出液孔；70-電鍍液；80-電極棒；90-施作物。

具體實施方式

請參閱圖2，為本實用新型的結構示意圖，如圖中所示，本實用新型的電鍍液容器60是用來組設在一電鍍機上，并可供盛裝電鍍加工時所使用的電鍍液70，其主要是包括：

一箱體601，以用來掛設一電極棒80與一施作物90，并在箱體601的周緣構設有相關的零件，如：一些配管等等，在箱體601的一側有形成有一排水孔6011；以及，