[實用新型]基于超磁致伸縮原理的微結構彎扭疲勞試驗裝置

無效

• 申請號: 200620158663.7
• 申請日: 2006-12-01
• 公開（公告）號: CN200993627Y
• 公開（公告）日: 2007-12-19
• 發明（設計）人: 尚德廣;劉豪;賈冠華;李力森;王瑞杰
• 申請（專利權）人: 北京工業大學
• 主分類號: G01N3/20
• 分類號: G01N3/20;G01M19/00
• 代理公司: 北京思海天達知識產權代理有限公司
• 代理人: 沈波

1、基于超磁致伸縮原理的微結構彎扭疲勞試驗裝置，其特征在于：主要包括有基底(1)、超磁致復合層伸縮薄膜和“T”型試樣(2)，超磁致復合層伸縮薄膜分為三層，中間一層為基片(4)，在基片(4)的上下分別鍍有負超磁致伸縮薄膜(3)和正超磁致伸縮薄膜(5)；其中，在基底(1)的中心有一凹槽，超磁致復合層伸縮薄膜設置在該凹槽內，其一端固定在基底(1)上構成懸臂梁，另一端與“T”型試樣(2)中間的一端固定連接，“T”型試樣(2)的另兩端分別固定在基底(1)上。

2、根據權利要求1所述的基于超磁致伸縮原理的微結構彎扭疲勞試驗裝置，其特征在于：所述的試樣(2)固定在基底1上的兩端相對于中間端對稱的開有缺口。