[實(shí)用新型]局部帶有放射源的覆膜支架無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200620158387.4 | 申請日： | 2006-11-16 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN200966838Y | 公開（公告）日： | 2007-10-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 沈陽 | 申請（專利權(quán)）人： | 沈陽 |
| 主分類號(hào)： | A61M36/00 | 分類號(hào)： | A61M36/00;A61F2/82;A61F2/04;A61F2/06;A61L27/00;A61L31/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 102218北京市昌平*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 局部 帶有 放射源 支架 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、一種局部帶有放射源的覆膜支架，包括有支架，其特征在于：在支架的表面對應(yīng)腫瘤位置處設(shè)置帶有放射性同位素的覆膜。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的局部帶有放射源的覆膜支架，其特征在于：其中所述的覆膜的形狀可以是圓形、橢圓形、三角形、矩形或菱形。
3、根據(jù)權(quán)利要求2所述的局部帶有放射源的覆膜支架，其特征在于：其中所述的設(shè)置在支架上的腹膜可以是一處或多處。
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