[實用新型]擦抹容器的改良結構無效
| 申請號: | 200620148797.0 | 申請日: | 2006-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN200967608Y | 公開(公告)日: | 2007-10-31 |
| 發明(設計)人: | 謝俊哲 | 申請(專利權)人: | 三正貿易有限公司 |
| 主分類號: | B65D47/42 | 分類號: | B65D47/42;B65D41/62;A45D34/04;A61M35/00;A61H7/00 |
| 代理公司: | 北京天平專利商標代理有限公司 | 代理人: | 孫剛;趙海生 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 容器 改良 結構 | ||
1.一種擦抹容器的改良結構,其特征在于,包括:
一用以收容擦抹液的瓶體,具有一開口;
一連接座,連接在上述瓶體的開口處,
一球座,與上述連接座相連接,其上方具有一球槽及貫通連接座及球槽的通道;
一球體,可滾動地裝置在上述球槽內,該球體的一半以上收納在球槽內及另一部份露出在球槽外;
一具有第一位移位置及第二位移位置的位移機構,位于上述連接座及球座上;及
一阻擋機構,位于上述球座的通道上。
2.依據權利要求1所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,進一步包括一用以限制上述位移機構第一及第二位移位置距離的限位機構,其位于上述球座及連接座之間。
3.依據權利要求1所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,進一步包括一用以使連接座在第二位移位置定位球座的定位機構,位于上述球座及連接座之間。
4.依據權利要求1所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,位移機構包含有一位于上述連接座表面的上斜凸條及一位于上述球座內的下斜凸條,該上斜凸條下緣為一上斜面及該下斜凸條上緣為下斜面,下斜面與上斜面相接觸。
5.依據權利要求4所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,瓶體上端具有一可與連接座內部下方所設置的一內螺紋相螺合而將瓶體與連接座連接的螺紋部系。
6.依據權利要求5所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,連接座具有一基座,上述內螺紋位于該基座內壁上;該基底的上方具有一直徑小于基底的突座,而突座上方進一步具有一口徑小于突座的管體;上述球座底部具有一套筒,該套筒套合在連接座的突座上。
7.依據權利要求6所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,位移機構的上斜凸條位于連接座的突座表面,而下斜凸條位于球座的套筒內壁。
8.依據權利要求7所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,套筒內壁具有兩個定位塊,而突座上相對具有兩個可將定位塊卡入的定位槽。
9.依據權利要求8所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,球座上方球槽為漏斗形,并在該漏斗形的球槽底部位置具有用以支撐球體底緣的對稱支撐塊。
10.依據權利要求9所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,球座在球槽與套筒之間具有一用以將二者連結的連結部,該連結部內具有上述通道;而該通道包含相連通的第一通道及第二通道;該第一通道位于下方,第二通道位于上方;該第一通道的口徑大于上述連接座的管體,且該第一通道底緣具有一圈擋環,其止擋在上述管體上緣所設的另一擋環處。
11.依據權利要求10所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,第二通道口徑大于上述連接座管體上設置的一止擋柱,且該第二通道內部具有一軟質墊圈,該墊圈內徑小于止擋柱。
12.依據權利要求10所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,止擋柱與管體之間具有多個供擦抹液流通的開槽。
13.依據權利要求1所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,進一步包括一可蓋合于上述瓶體上方,以封閉球座、球體及連接座的蓋體。
14.依據權利要求13所述的擦抹容器的改良結構,其特征在于,蓋體內部頂端具有一用以接觸球體而使球體定位,以防止球體滾動的圈壓環。
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