[實(shí)用新型]大幅面激光標(biāo)刻太陽能電池的裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200620144550.1
• 申請(qǐng)日: 2006-12-31
• 公開（公告）號(hào): CN201038180Y
• 公開（公告）日: 2008-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李毅;李全相
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 李毅
• 主分類號(hào): H01L31/18
• 分類號(hào): H01L31/18;H01L31/20
• 代理公司: 深圳市毅穎專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 張藝影;李奕暉

1.一種大幅面激光標(biāo)刻太陽能電池的裝置，由電腦控制激光發(fā)生器和載物工作臺(tái)，包括工作電源，冷卻系統(tǒng)，其特征還包括電腦程序控制幅面為400mm～600mm激光振鏡掃描系統(tǒng)；由電腦控制系統(tǒng)控制X-Y軸交聯(lián)載物平臺(tái)，在該平臺(tái)上放置有待標(biāo)刻的基片，所說基片的標(biāo)刻區(qū)域是以X、Y軸向相鄰的n×m個(gè)等份，該標(biāo)刻區(qū)域范圍為400mm～600mm×400mm～600mm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大幅面激光標(biāo)刻太陽能電池的裝置，其特征在于所說激光振鏡掃描系統(tǒng)裝在固定架Z軸懸臂上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大幅面激光標(biāo)刻太陽能電池的裝置，其特征在于所說的X-Y軸交聯(lián)平臺(tái)上的基片幅面為1000mm×2000mmm，振鏡頭標(biāo)刻范圍設(shè)定為500mm×500mm，其中n＝4，m＝2，標(biāo)刻區(qū)域?yàn)?等份。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大幅面激光標(biāo)刻太陽能電池的裝置，其特征是所說待標(biāo)刻的基片是非晶硅薄膜太陽能電池，激光振鏡掃描系統(tǒng)幅面為400mm～600mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的大幅面激光標(biāo)刻太陽能電池的裝置，其特征在于所說基片的標(biāo)刻區(qū)域是非晶硅薄膜太陽能電池的前電極圖形。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的大幅面激光標(biāo)刻太陽能電池的裝置，其特征在于所說的非晶硅薄膜太陽能電池的前電極圖形，該電極相鄰圖形間絕緣隔離線寬度為0.1～0.4mm，絕緣電阻大于2MΩ。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的大幅面激光標(biāo)刻太陽能電池的裝置，其特在于所說待標(biāo)刻的非晶硅薄膜太陽能電池是刻除非晶硅薄膜層，非晶硅圖形和前電極圖形隔離線邊緣間距為0.1～0.3mm。