[實用新型]大面積大批量均勻注入金屬蒸汽真空弧離子注入機無效
| 申請號： | 200620139256.1 | 申請日： | 2006-09-08 |
| 公開（公告）號： | CN201089792Y | 公開（公告）日： | 2008-07-23 |
| 發明（設計）人： | 吳先映;李強;劉安東;張薈星;張孝吉;彭建華 | 申請（專利權）人： | 北京師范大學 |
| 主分類號： | C23C14/48 | 分類號： | C23C14/48;C23C14/54 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100875北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 大面積 大批量 均勻 注入 金屬 蒸汽 真空 離子 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用金屬離子注入進行材料表面改性處理的大面積大批量均勻注入金屬蒸汽真空弧離子注入機，其特征在于至少一臺強束流大束斑金屬蒸汽真空弧離子源傾斜安裝在真空大靶室的頂側部，靶室內設計有多個水平布置、可靈活運動的靶盤。
2.根據權利要求1所述結構的大面積大批量均勻注入金屬蒸汽真空弧離子注入機，其特征在于所述的多個靶盤可以靈活運動，如公轉帶自轉，在指定位置自轉。
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