[實用新型]曝光機的對準定位裝置

無效

• 申請號: 200620137897.3
• 申請日: 2006-09-29
• 公開（公告）號: CN200972571Y
• 公開（公告）日: 2007-11-07
• 發明（設計）人: 林憲維
• 申請（專利權）人: 科毅科技股份有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 天津三元專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 鄭永康

1.一種曝光機的對準定位裝置，包括：一機臺、一工件承座、一光罩承座、一曝光頭；其特征在于，

該工件承座是設于該機臺上，其是用以固定一工件，該工件承座至少具有一第一伸縮裝置、一固定座、一活動座及一活動座固定裝置；該第一伸縮裝置是介于該機臺與該固定座間，該固定座設一半球凹部，該活動座設一與該半球凹部相對應的半球凸部，使該半球凹部與該半球凸部相配合而可任意方向微量傾斜，該活動座固定裝置供固定活動座；

所述光罩承座，用以固定一光罩；

所述曝光頭，用以發出預定光線穿透該光罩。

2.根據權利要求1所述的曝光機的對準定位裝置，其特征在于所述活動座固定裝置是以磁性定位固定所述活動座。

3.根據權利要求1所述的曝光機的對準定位裝置，其特征在于所述活動座固定裝置是以直接卡止固定所述活動座。