[實用新型]真空桶式鍍膜機

無效

• 申請號: 200620108913.6
• 申請日: 2006-10-25
• 公開（公告）號: CN200992572Y
• 公開（公告）日: 2007-12-19
• 發明（設計）人: 李俊弘
• 申請（專利權）人: 杭州金高照明電器有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C03C17/09
• 代理公司: 杭州裕陽專利事務所
• 代理人: 張宇娟

技術領域

本實用新型涉及一種真空鍍膜機，具體地說是一種將待鍍膜基材如玻璃罩和加熱系統置于真空桶內鍍膜的真空桶式鍍膜機。

背景技術

目前市場上生產玻璃反射罩的鍍膜機通常采用外加熱式鍍膜機，其系統原理是待鍍膜玻璃罩與真空杯一并在外部加熱，如圖1所示即為一種現有的玻璃反射罩鍍膜機。這種鍍膜機通常采用煤氣加熱，通過移動式烘箱103對玻璃罩101與真空杯102加熱，使玻璃罩與真空杯內殘留的空氣加速排出真空系統外，提高真空系統的真空度。當真空系統達到蒸鍍所需的真空度時，對玻璃罩內的電極通電，讓附著在加熱器如鎢絲上的鋁絲熔化，并均勻蒸發至待鍍的玻璃罩內壁，即形成一層均勻的鋁薄膜附著于玻璃罩內壁。

然而，采用這種外部加熱的鍍膜方式存在著如下不足：

1、常因加熱烘箱的移動與外界氣流的流動，使得玻璃罩與真空杯受熱不均勻，影響整體真空系統的真空度，進而影響所鍍薄膜的品質，造成內壁所鍍膜厚薄不均、局部不能鍍膜或薄膜亮度不足。而真空度是影響真空鍍膜質量和均勻度的主要因素之一，真空度越高，蒸發源材料的分子才越易于離開材料表面向四周散射。

2、由于玻璃罩外壁為常壓狀態，內側則成真空狀態，玻璃罩將承受著較大的壓力差，而這種玻璃罩壁厚度不均勻或玻璃內外壓力差的存在極易造成玻璃罩在作業中發生爆炸，帶來不良生產安全隱患，并影響產品品質。

發明內容

為克服現有技術中的上述技術缺陷，本實用新型提供了一種真空桶式鍍膜機，它能很好地改善加熱鍍膜時的安全性，提高加熱穩定性和鍍膜所需的真空度，進一步提高產品良率。

為此，本實用新型采用的技術方案如下：

一種真空桶式鍍膜機，包括一用于容置待鍍膜基材的桶體及密封蓋于桶體上方的蓋體，桶體內設有加熱系統和蒸發系統，所述的加熱系統由電熱元件和加熱電極組成，所述的蒸發系統由蒸發源和蒸發電極組成，桶體壁上還設有真空系統接口。

根據本實用新型的一個方面，桶體底部向下凸出形成一桶體接口，桶體接口與一上方開口的工位頭腔體相連接，蒸發電極連接于工位頭腔體底部，真空系統接口位于工位頭腔體底壁或側壁上。

根據本實用新型的一個方面，工位頭腔體與桶體接口采用螺紋方式、卡扣方式、卡箍方式或螺釘方式連接。

根據本實用新型的一個方面，工位頭腔體與桶體接口的連接處設有密封圈。

根據本實用新型的一個方面，蓋體為透明或半透明的玻璃蓋體，或帶玻璃可視窗的蓋體。

根據本實用新型的一個方面，蒸發電極由第一電極桿和第二電極桿組成，所述的第一電極桿和第二電極桿為可拆卸式連接。

采用上述技術方案的本實用新型具有如下明顯的優點和積極的效果：

1、提高了鍍膜的安全性。在該真空桶體內，鍍膜基材(如玻璃罩)在鍍膜時能保持原有的穩定性，其內外壁在所需真空度時所承受的壓力度一致，確保安全、不爆炸，還能節約原料、提高產量。

2、改善了鍍膜時的真空度。在該真空桶體內，(如玻璃罩)在鍍膜時不易受到外界因素如外界溫度、濕度、氣流等的影響，確保真空度的穩定并能迅速達到鍍膜所需的真空度，使所需鍍層能有效、均勻地附著于基材壁上，并能加強牢固度，提高良率。

3、提高了加熱系統的穩定性。在該真空桶體內，加熱系統能很好的、充分的發熱，保證鍍膜基材(如玻璃罩)在鍍膜時所需的熱度均勻，促使真空桶內的真空度快速提升，加速殘留氣體因熱脹冷縮的原理而被排除在真空系統外，使鍍層能有效、均勻地附著于玻璃壁上。

附圖說明

圖1為現有一種鍍膜機工作原理示意圖；

圖2為本實用新型第一種實施例鍍膜機結構示意圖；

圖3為本實用新型第二種實施例鍍膜機的桶體與工位頭腔體結構示意圖；

圖4為本實用新型第二種實施例鍍膜機的桶體部分結構示意圖；

圖5為本實用新型第二種實施例鍍膜機的桶體俯視圖；

圖6為本實用新型鍍膜機的加熱電極結構示意圖。

圖中，1-桶體，2-蓋體，3-加熱電極，31-螺桿，32-絕緣套管，33-不銹鋼套管，34-螺母，35-絕緣片，4-電熱絲，5-桶體接口，6-工位頭腔體，7-蒸發電極，71-第一電極桿，72-和第二電極桿，73-螺絲，74-電極桿接頭，8-加熱器，9-真空系統接口，10-密封圈，11-卡箍，12-密封圈，13-電線。

具體實施方式

實施例1