[實(shí)用新型]全深度探測(cè)的頻域光學(xué)相干層析成像裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200620043657.7 | 申請(qǐng)日： | 2006-07-05 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN2916623Y | 公開（公告）日： | 2007-06-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 步鵬;王向朝 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào)： | G01N21/45 | 分類號(hào)： | G01N21/45;A61B5/00 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人： | 張澤純 |
| 地址： | 201800上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 深度 探測(cè) 光學(xué) 相干 層析 成像 裝置 | ||
【說明書】：
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G01 測(cè)量；測(cè)試
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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