[實(shí)用新型]納米銀鹽乳劑照相制版形成光學(xué)碼盤無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200620029382.1 | 申請日: | 2006-09-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201035318Y | 公開(公告)日: | 2008-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王平;徐邁;張平;劉強(qiáng) | 申請(專利權(quán))人: | 長春奧尼格光電有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/06 | 分類號(hào): | G03F7/06;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;G01D5/26 |
| 代理公司: | 長春科宇專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 劉樹清 |
| 地址: | 130011吉林省長春市*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 銀鹽 乳劑 照相 制版 形成 光學(xué) | ||
1.納米銀鹽乳劑照相制版形成光學(xué)碼盤,包括:高分子樹脂基板、透明連接層、碼道;其特征在于還包括納米銀鹽乳劑層(7),在高分子樹脂基板(5)上,均勻涂布透明連接層(6),在透明連接層(6)上,均勻涂布納米銀鹽乳劑層(7),納米銀鹽乳劑層(7)經(jīng)曝光顯影后去除納米銀鹽乳劑的部位是碼道(8)。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





