[實用新型]漿紗機上蠟裝置

無效

• 申請號: 200620010793.6
• 申請日: 2006-10-14
• 公開（公告）號: CN200985400Y
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發明（設計）人: 李國棟
• 申請（專利權）人: 丁宏利
• 主分類號: D02J3/18
• 分類號: D02J3/18;D06B23/00;D02H11/00
• 代理公司: 濰坊正信專利事務所
• 代理人: 趙玉峰

技術領域

本實用新型涉及一種漿紗機上的輔助裝置，尤其是涉及一種可提高紗的上蠟質量的漿紗機上蠟裝置。

背景技術

目前人們在生產中所用的漿紗機的上蠟裝置多為在漿紗機的機體上設有一蠟槽，在蠟槽的上部設一上蠟輥，紗片由漿紗機烘房內出來后，通過張力提示輥后經上蠟輥，再經分絞棒的分紗后到達漿紗機的車頭后落軸得到織軸，如當前人們使用比較廣泛的G142C-200型漿紗機，其中，紗片在經過上蠟輥時，與轉動的上蠟輥接觸，通過轉動的上蠟輥表面攜帶的蠟液實現紗片的上蠟。但是，由于上蠟裝置位于漿紗機上張力指示輥和第一根干分絞棒之間，在漿紗機正常工作時，由于紗片的張力隨時發生變化，所以張力指示輥會隨著紗線張力的變化而反復上下運動，使得紗片與上蠟輥的接觸面也在不斷變化，導致整個紗片上蠟不勻，影響了紗的上蠟質量。

發明內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供了一種漿紗機上蠟裝置，它能夠使紗片與上蠟輥保持一個穩定接觸面，保證了紗片上蠟均勻，提高了紗片的上蠟質量。

為解決上述技術問題，本實用新型的技術方案是：漿紗機上蠟裝置，包括設置在漿紗機機體上的蠟槽和設置在蠟槽上部的上蠟輥，所述漿紗機機體上位于沿紗片行進方向上上蠟輥的前方設有一壓紗輥，所述壓紗輥上紗片握持點低于上蠟輥上紗片握持點。

作為一種改進，所述漿紗機機體上位于沿紗片行進方向上上蠟輥的后方也設有壓紗輥。

采用了上述技術方案的漿紗機上蠟裝置，由于是在所述漿紗機機體上位于沿紗片行進方向上上蠟輥的前方設有一壓紗輥，并且壓紗輥上紗片握持點低于上蠟輥上紗片握持點，這樣的結構，避免了因紗片的張力發生變化而導致張力指示輥反復上下運動、從而使得紗片與上蠟輥接觸面發生變化的現象，使得紗片上蠟均勻，提高了紗片的上蠟質量。而在漿紗機機體上位于沿紗片行進方向上上蠟輥的后方也設有壓紗輥，通過在上蠟輥的前后兩側均設有壓紗輥的方式，使得紗片與上蠟輥的接觸面積完全不受張力變化的影響，大大提高了紗片的上蠟質量。

附圖說明

下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步的說明。

附圖是本實用新型漿紗機上蠟裝置的示意圖。

具體實施方式

如附圖所示，本漿紗機上蠟裝置包括設置在漿紗機機體上的蠟槽4和設置在蠟槽4上部的上蠟輥3，在漿紗機機體上沿紗片行進方向依次設有烘房1、張力指示輥2、上蠟輥3和分絞棒5，紗片由烘房1內出來后經張力指示輥2、上蠟輥3和分絞棒5后到達漿紗機車頭6落軸得到織軸。其中，紗片在經過上蠟輥3時，與轉動的上蠟輥3接觸，通過轉動的上蠟輥3表面攜帶的蠟液實現紗片的上蠟。為了能夠保證紗片與上蠟輥3保持一個穩定的接觸面，以保證紗片上蠟的均勻，如附圖所示，在漿紗機機體上位于沿紗片行進方向上上蠟輥3的前方設有一壓紗輥7，并且壓紗輥7上與紗片接觸時的紗片握持點低于上蠟輥3上與紗片接觸時的紗片握持點，這樣，通過壓紗輥7對紗片的握持，避免了因紗片的張力發生變化而導致張力指示輥2反復上下運動、從而使得紗片與上蠟輥3的接觸面發生變化的現象，使得紗片上蠟均勻，提高了紗片的上蠟質量。并且，為了進一步提高紗片的上蠟質量，在漿紗機機體上位于沿紗片行進方向上上蠟輥3的后方也設有壓紗輥7。這樣，紗片自烘房1內出來經張力指示輥2后，在上蠟輥3前和后兩側的壓紗輥7的壓紗握持下，與上蠟輥3穩定接觸，實現紗片的均勻上蠟，然后經過分絞棒5的分紗后到達漿紗機車頭6落軸得到織軸。