[發(fā)明專利]一種用于連續(xù)帶狀基料的真空沉積薄膜裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610200516.6
• 申請日: 2006-06-05
• 公開（公告）號: CN101086058A
• 公開（公告）日: 2007-12-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李博峰
• 申請（專利權(quán)）人: 李博峰
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種薄膜制備裝置，特別是用真空沉積技術(shù)在帶狀工料上制備薄膜的裝置。

背景技術(shù)

對帶狀工料進(jìn)行真空沉積制備薄膜時，一般都將帶狀原料和制備完的產(chǎn)品整卷在大氣環(huán)境完全裝入一個或數(shù)個同壓強(qiáng)的體積較大的真空室內(nèi)，然后抽真空、沉積薄膜，最后破壞真空回到大氣環(huán)境中換料；或先將帶狀工料先分成段料(薄板材)，然后在大氣環(huán)境放入一個或數(shù)個同壓強(qiáng)體積較小的真空室內(nèi)，然后抽真空、沉積薄膜，最后破壞真空回到大氣環(huán)境中換料。對段料也可采取使用真空閥實現(xiàn)段料從大氣環(huán)境中上行經(jīng)過多段壓強(qiáng)不同體積較小的真空室內(nèi)來制備涂層，再下行經(jīng)過多段壓強(qiáng)不同體積較小的真空室回到大氣環(huán)境。以上所述帶狀基料真空沉積制備薄膜的方法，都無法真正實現(xiàn)不破壞設(shè)備真空狀態(tài)下在大氣環(huán)境中連續(xù)換料，生產(chǎn)效率低、涂層質(zhì)量不穩(wěn)定。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種能夠在大氣環(huán)境中連續(xù)換料、設(shè)備始終維持在真空狀態(tài)、生產(chǎn)效率高、涂層質(zhì)量穩(wěn)定的帶狀基料鍍膜裝置。

本發(fā)明可實現(xiàn)卷帶狀工料在大氣環(huán)境中連續(xù)放料，通過數(shù)級上行的具有兩個輥軸對滾夾緊帶狀基料的真空密封裝置進(jìn)入一段或分段的高真空環(huán)境中進(jìn)行沉積制備薄膜，然后再經(jīng)過與前述上行真空密封裝置相同的下行真空密封裝置返回到大氣環(huán)境中進(jìn)行收料。所述裝置包括有收放料子系統(tǒng)，提供原材料的放料裝置和存放產(chǎn)品的收料裝置；糾偏子系統(tǒng)，用來糾正帶狀基料進(jìn)出真空密封裝置時產(chǎn)生偏差的糾偏裝置；真空密封子系統(tǒng)，用以實現(xiàn)帶狀基料由大氣進(jìn)/出真空環(huán)境的動態(tài)密封動裝置；真空室，用于提供真空沉積薄膜的氣氛的一段或分段的腔體；真空獲得子系統(tǒng)，即各種真空泵組以及真空薄膜沉積子裝置。本發(fā)明提供的裝置只需要在更換靶材或清理真空室時才需要破壞真空環(huán)境停機(jī)，其余一直處于連續(xù)工作狀態(tài)。

附圖說明

圖1為本發(fā)明用于帶狀基料沉積薄膜的真空裝置示意圖；

圖2為真空密封單元的剖視圖。

具體實施方式

本發(fā)明的實施例將參照附圖1進(jìn)行描述。

在圖1中，本發(fā)明用于帶狀基料沉積薄膜的真空裝置包括放料裝置1、上行糾偏裝置2、上行真空密封裝置3、真空室4、真空室真空獲得設(shè)備6、下行真空密封裝置8、真空密封裝置真空獲得設(shè)備10、下行糾偏裝置9、收料裝置11。其中真空密封裝置是由一個或者一個以上的真空密封單元首尾連接組成。在圖2中每個真空密封單元是由兩個對滾的上輥軸22和下輥軸25組成。當(dāng)帶狀基料24通過真空密封裝置3進(jìn)入真空室4時，由兩個真空密封單元的輥軸對滾將帶狀基料擠進(jìn)真空室，同時兩個真空密封單元之間和靠近真空室的密封單元與真空室之間設(shè)有真空獲得裝置10，達(dá)到動態(tài)密封的目的。進(jìn)入真空室后進(jìn)行沉積薄膜，然后進(jìn)入下行真空密封裝置8，由下行真空密封裝置采用同上行真空密封裝置相同的方法將帶狀基料擠出真空室。在放料裝置1與上行真空密封裝置3之間和下行真空密封裝置8與收料裝置11之間，分別設(shè)有上行糾偏裝置2和下行糾偏裝置9，以調(diào)節(jié)帶狀工料在運動過程中可能出現(xiàn)的走偏。