[發明專利]制造用于平板顯示器件的薄膜晶體管的方法有效
| 申請號: | 200610172285.2 | 申請日: | 2006-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN101097371A | 公開(公告)日: | 2008-01-02 |
| 發明(設計)人: | 樸相旭 | 申請(專利權)人: | LG.菲利浦LCD株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/136;G02F1/133;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 | 代理人: | 李輝;呂俊剛 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制造 用于 平板 顯示 器件 薄膜晶體管 方法 | ||
技術領域
本發明涉及制造用于平板顯示器件的薄膜晶體管(TFT)的方法。具 體來講,本發明涉及一種利用減少數量的掩模來制造TFT的方法。
背景技術
目前存在對于用于便攜式信息設備的圖像顯示器件的需求。尤其對于 代替陰極射線管(CRT)的平板顯示器(FPD)有很大的需求。液晶顯示 器(LCD)是最流行的平板顯示器(FPD)中的一種。LCD器件通過利用 液晶的光各向異性來顯示圖像。LCD器件由于提供了高分辨率和良好圖像 質量的優點而已被用作筆記本計算機和臺式計算機的監視器。
LCD器件包括:第一基板一濾色器基板;第二基板-陣列基板;以及 形成在濾色器基板和陣列基板之間的液晶層。LCD器件是通過光刻來制造 的。光刻包括用于形成包括薄膜晶體管(作為開關元件)的陣列基板的多 個掩模工藝。
圖1是表示用于LCD器件的薄膜晶體管陣列基板的某些部分的平面 圖。在圖1中,線I-I’對應于薄膜晶體管部分和數據線部分,線II-II’對應 于數據焊盤部分,而線III-III’對應于選通焊盤部分。
根據型號不同,現有技術的用于制造LCD器件的方法可能涉及多個 掩模,例如四、五或六個掩模。例如,在圖1中,該現有技術方法可以使 用四個掩模,包括(i)用于形成柵極的第一掩模;(ii)用于形成有源層以 及源極和漏極的第二掩模;(iii)用于在鈍化層中形成接觸孔的第三掩模; 和(iv)用于形成像素電極的第四掩模。
現有技術的制造LCD器件的方法中所使用的掩??赡苁前嘿F的。隨 著制造方法中使用更多的掩模,制造成本可能顯著提高。使用掩模時,接 下來要進行諸如照射、剝離(stripping)和清潔的附加工藝。因此,需要 制造LCD器件的工藝,特別是減少制造方法中所使用的掩模的數量。
發明內容
在一個實施例中,一種制造薄膜晶體管的方法包括利用第一掩模構圖 出柵極,并且利用第二掩模形成有源圖案和光刻膠圖案?;陬A定寬度的 蝕刻阻體(stopper)對光刻膠圖案進行灰化(ash)。對位于經灰化光刻膠圖 案下的絕緣層進行構圖,以形成蝕刻阻體。利用第三掩模構圖出源極和漏 極。
在另一實施例中,一種制造薄膜晶體管的方法包括在絕緣基板上形成 柵極,并且在柵極上形成有源層和蝕刻阻體。在包括蝕刻阻體的絕緣基板 的整個表面上形成金屬層。通過選擇性地蝕刻金屬層而露出蝕刻阻體。通 過蝕刻剩余的金屬層而在蝕刻阻體的兩側形成源極和漏極。
在另一實施例中,一種制造LCD器件的方法包括制備限定有薄膜晶體 管部分、數據線部分、選通焊盤部分和數據焊盤的絕緣基板。利用第一掩 模在絕緣基板上形成選通線,該選通線包括形成在薄膜晶體管部分中的柵 極。并且利用該第一掩模在選通焊盤部分中形成選通焊盤。利用第二掩模 形成有源圖案和光刻膠圖案?;陬A定寬度的蝕刻阻體對光刻膠圖案進行 灰化。對經灰化光刻膠圖案下的絕緣層進行構圖,以形成蝕刻阻體。利用 第三掩模在薄膜晶體管部分中形成數據線,并在數據焊盤部分中形成數據 焊盤。形成與漏極相連的像素電極。
附圖說明
所包括的用于提供對本發明的進一步理解,并結合且構成本說明書一 部分的附圖示出了本發明的實施例,并連同說明書一起用于解釋本發明的 原理。
圖1是表示根據現有技術的薄膜晶體管陣列基板的平面圖;
圖2是表示根據本發明一個實施例的薄膜晶體管陣列基板的平面圖; 以及
圖3A至3I是沿圖2的剖視線截取的表示用于制造薄膜晶體管陣列基 板的方法的剖視圖。
具體實施方式
下面將詳細參照本發明的優選實施例,其示例在附圖中示出。
圖2是表示根據本發明一個實施例的薄膜晶體管陣列基板的某些部分 的平面圖。圖2包括與薄膜晶體管部分和數據線部分相對應的線IV-IV’、 與數據焊盤部分相對應的線V-V’以及與選通焊盤部分相對應的線VI-VI’。 圖3A到3I是沿圖2的線IV-IV’、V-V’和VI-VI’截取的表示采用3掩模工 藝來制造LCD器件的方法的剖視圖。
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