[發明專利]印刷線路基板制造用PSAP方法有效
| 申請號: | 200610171126.0 | 申請日: | 2006-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN101102647A | 公開(公告)日: | 2008-01-09 |
| 發明(設計)人: | 白泰逸 | 申請(專利權)人: | 株式會社第4紀韓國 |
| 主分類號: | H05K3/38 | 分類號: | H05K3/38;H05K3/02 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 陸錦華;謝麗娜 |
| 地址: | 韓國仁*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 印刷 線路 制造 psap 方法 | ||
1.一種印刷線路基板制造用PSAP方法,其特征在于,在用于印刷線路基板制造的通常的SAP工序中包含以下階段而構成:
用含銅的導電性高的膜在PI或絕緣基板的兩表面、一面上進行涂覆或澆鑄,在該表面上積層DFR之前,對該表面進行等離子體處理,通過微細異質物除去和表面改質使DFR的貼緊力提高的第1等離子體處理階段;
在上述階段之后形成DFR圖形,對該圖形及圖形壁之間的表面進行等離子體處理,進行除渣和表面改質的第2等離子體處理階段;
還是在等離子體中對DFR圖形均質地進行蝕刻,減小寬度,把DFR圖形之間擴大之后,在經等離子體處理后的圖形壁之間實施銅鍍敷,形成線路,通過第1蝕刻,在基板上只留下銅,除去圖形壁之后,對露出的基板的表面及銅鍍敷面進行等離子體處理,進行除渣及表面改質的第3等離子體處理階段;以及
對經等離子體處理后的基板進行最終蝕刻,完成電線路的第2蝕刻階段。
2.根據權利要求1所述的印刷線路基板制造用PSAP方法,其特征在于,在上述第1、2、3等離子體處理階段中,等離子體按如下條件由等離子體產生器來產生、處理:輸出用量為1~50kw;頻率為1KHz~2.54GHz的高頻;電壓在真空等離子體的場合為30~1000V,在大氣壓等離子體的場合為5Kv~20Kv;氛圍氣氣體可以是從空氣、O2、N2、CF4、Ar、H2、NF3中選擇的任意一種或兩種以上的組合,處理時間為1~60分鐘,處理溫度為30~100℃。
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