[發明專利]一種具有相分離結構的二氧化鈦薄膜的制備方法

有效

• 申請號: 200610169557.3
• 申請日: 2006-12-22
• 公開（公告）號: CN101205119A
• 公開（公告）日: 2008-06-25
• 發明（設計）人: 王丹;姚建曦
• 申請（專利權）人: 中國科學院過程工程研究所
• 主分類號: C03C17/23
• 分類號: C03C17/23
• 代理公司: 北京泛華偉業知識產權代理有限公司
• 代理人: 王鳳華

1.一種具有相分離結構的二氧化鈦薄膜的制備方法，包括如下的步驟：

1)將石英基板洗干凈，并在600℃下熱處理；

2)將鈦酸異丙酯在0℃溶于乙醇和二甲基甲酰胺的混合溶液中，攪拌使之混合均勻，緩慢滴入水和硝酸，溶液中鈦酸異丙酯、二甲基甲酰胺、水、乙醇、硝酸各個反應物的摩爾比為1∶4∶1.5～3.5∶8∶0.3～0.7；混合均勻后加入常規劑量的偶氮二異丁氰，攪拌至溶解；

3)將0.0025mol～0.0125mol的高分子單體溶解于為5～7wt％的聚乙烯吡咯烷酮乙醇溶液中，并與步驟2)得到的溶液混合攪拌；

所述的高分子單體為丙烯酰胺、二季戊四醇羥基五丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯和新戊二酸二丙烯酸脂、三甲基丙烷三丙烯酸酯或1，6-己二醇二丙烯酸酯；

4)將步驟3)得到的溶膠采用浸漬鍍膜的方式在步驟1)處理的基板上制備一層厚度均勻的薄膜；

5)將步驟4)得到的薄膜在紫外光下照射10～30min；

6)將步驟5)得到的薄膜在200℃和600℃下分別熱處理，得到具有相分離結構的二氧化鈦薄膜。

2.如權利要求1所述的具有相分離結構的二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：所述步驟1)中分別用洗滌劑、蒸餾水、乙醇、丙酮將石英基板洗干凈。

3.如權利要求1所述的具有相分離結構的二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：所述步驟1)中熱處理時間為10分鐘。

4.如權利要求1所述的具有相分離結構的二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：所述步驟2)中的常規劑量是指按照高分子單體質量1％加入偶氮二異丁氰。

5.如權利要求1所述的具有相分離結構的二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：所述步驟3)中攪拌時間為30分鐘。

6.如權利要求1所述的具有相分離結構的二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：所述步驟5)的紫外光的波長為200～400納米，功率在500W以下。

7.如權利要求1所述的具有相分離結構的二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于：所述步驟6)中熱處理時間為10分鐘。