[發明專利]一種輕金屬材料的表面處理方法

有效

• 申請號: 200610167400.7
• 申請日: 2006-12-31
• 公開（公告）號: CN101210336B
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: 林軍;宮清;陳梁
• 申請（專利權）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類號: C25D11/04
• 分類號: C25D11/04
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 王鳳桐;董占敏

1.一種輕金屬材料的表面處理方法，其特征在于，該表面處理方法包括對輕金屬材料表面形成微弧氧化膜，并依次對形成有微弧氧化膜的輕金屬材料的表面進行激光雕刻和陽極氧化，所述微弧氧化膜的形成方法包括將輕金屬材料置于盛有電解質溶液的電解槽中，以輕金屬材料為陽極，電解槽作為陰極，將輕金屬材料氧化，所用電解質溶液為含有堿金屬化合物的水溶液，同時還含有有機添加劑和/或無機鹽添加劑，所述無機鹽添加劑選自與所述堿金屬化合物不形成沉淀的V和Co的無機鹽中的一種或幾種，有機添加劑為丙三醇和/或乙二胺，所述有機添加劑的含量為0.1-30毫升/升，所述無機鹽添加劑的含量為0.1-20克/升。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述微弧氧化的條件使輕金屬材料表面形成的微弧氧化膜的厚度為5-300微米。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，微弧氧化的條件包括電流密度為0.5-10安/分米²，電壓為從0伏至700-800伏，電解質溶液的溫度為10-50℃，微弧氧化的時間為5-50分鐘。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，所述堿金屬化合物選自堿金屬氫氧化物、堿金屬的硅酸鹽、堿金屬的磷酸鹽、堿金屬的硼酸鹽、堿金屬的鋁酸鹽、堿金屬的氟化物中的一種或幾種，以所述電解質溶液為基準，堿金屬化合物的含量為1-100克/升。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述激光雕刻的條件使形成有微弧氧化膜的輕金屬材料的表面形成清晰的圖案。

6.根據權利要求5所述的方法，其中，所述激光雕刻的條件包括雕刻設備的電流為2-20安，頻率為2000-50000赫茲，波長為5-1000納米，雕刻時的中間延遲為2-30毫秒。

7.根據權利要求1所述的方法，其中，所述陽極氧化為硫酸陽極氧化，該硫酸陽極氧化的方法包括將進行激光雕刻后的輕金屬材料置于盛有硫酸溶液的電解槽中，以輕金屬材料為陽極，電解槽作為陰極，進行氧化，硫酸溶液的濃度為140-220克/升，電壓為10-12伏，溫度為18-22℃，時間為20-60分鐘。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，所述表面處理方法還包括將陽極氧化后的輕金屬材料與染料溶液接觸，在輕金屬材料的表面著色，接觸的溫度為40-80℃，時間為0.5-10分鐘，染料溶液的濃度為0.5-10克/升，pH值為5.0-7.0，染料溶液的用量為0.1-20克/米²基材。

9.根據權利要求8所述的方法，其中，所述染料為無機染料或有機染料。

10.根據權利要求1所述的方法，其中，所述輕金屬為鎂、鋁、鈦、鎂合金、鋁合金或鈦合金。