[發(fā)明專利]校正計算機斷層造影中因過度曝光引起的圖像偽影的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610166999.2 | 申請日： | 2006-12-13 |
| 公開（公告）號： | CN1983331A | 公開（公告）日： | 2007-06-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 托馬斯·布倫納;伯恩德·施賴伯 | 申請（專利權(quán)）人： | 西門子公司 |
| 主分類號： | G06T5/00 | 分類號： | G06T5/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 邵亞麗;李曉舒 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 校正 計算機 斷層 造影 過度 曝光 引起 圖像 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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