[發明專利]全像光學儲存系統無效
| 申請號: | 200610161109.9 | 申請日: | 2006-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN101192425A | 公開(公告)日: | 2008-06-04 |
| 發明(設計)人: | 鄭新平;張佳彥 | 申請(專利權)人: | 建興電子科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G11B7/0065 | 分類號: | G11B7/0065;G03H1/04;G03H1/12;G11C13/04 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 周國城 |
| 地址: | 臺灣省*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 儲存 系統 | ||
技術領域
本發明涉及一種全像光學儲存系統(Hologram?Optical?StorageSystem),且特別是有關于全像光學儲存系統的光檢測裝置及其檢測方法。
背景技術
請參照圖1,其所繪示為全像光學儲存系統示意圖。一般來說,全像光學儲存系統100是由信號光束(Signal?Beam)12、數據平面(DataPlane)14、參考光束(Reference?Beam)16、儲存材料(StorageMedium)18、數據光束(Data?Beam)22、以及光檢測裝置(DetectingApparatus)20所組成。
利用一光源,例如激光光源,經分光器(未繪示)分成二道光束。其中一道光束照射于一數據平面14后即成為一信號光束12,也就是說信號光束12中包有數據平面上14所呈現的影像信息。而另一道光束即為參考光束16。當信號光束12以及參考光束16同時聚焦于儲存材料18時,信號光束12與參考光束16所產生的干涉條紋會形成于一焦點24上,而干涉條紋可視為一光柵(Grating)則形成于儲存材料18的焦點24上。之后,當儲存材料18僅由參考光束16照射時,在原信號光束12的延伸方向(亦即,信號光束的出射角)會輸出一數據光束22。而在數據光束22前進的方向上放置光檢測裝置20,即可以獲得原數據平面14上的影像信息。
也就是說,利用全像光學儲存系統100,當將數據寫入儲存材料18時,先將數據轉換為影像信息并顯示于數據平面14上,當光束照射于數據平面14后即成為一信號光束12。之后,同時將信號光束12以及參考光束16照射所形成具有干涉條紋的焦點24記錄于儲存材料18中,即完成數據的寫入。當讀取數據時,僅利用參考光束16聚焦于儲存材料18的焦點24,即可在原信號光束12的延伸方向會產生數據光束22,并利用光檢測裝置20即使得原數據平面14上的影像信息投影至光檢測裝置20上,并利用此影像信息即可還原成原數據。
一般來說,數據平面14即所謂的空間光調變器(Spatial?LightModulator,簡稱SlM),其可為數字微型反射鏡陣列(Digital?Micro~mirror?Device,簡稱DMD)或液晶面板(Liquid?Crystal?Display,簡稱LCD)。不論是數字微型反射鏡陣列或者是液晶面板皆是由多個顯示單元排列成陣列(Array)的形式,并根據所有的顯示單元的亮暗影像組合之后,呈現出該影像信息。再者,儲存材料18為光聚合物(Photopolymer)。而光檢測裝置20為電荷耦合元件(Charge~Coupled?Device,簡稱CCD)或者互補金氧化物半導體(Complementary?Metal?Oxide?Semiconductor,簡稱CMOS)。同理,不論是電荷耦合元件或者是互補金氧化物半導體皆是由多個光感測單元排列成陣列的形式,用以接收數據平面14上顯示單元所呈現出的該影像信息。
由于儲存材料18在數據寫入時會產生形變,另外,儲存材料18在環境溫度改變時也會導致形變。而以上所述情況皆會造成儲存于儲存材料18中的光柵改變其方向與大小。所以,在讀取儲存材料18上的數據時,會產生實際的數據光束22與原信號光束12的延伸方向不同的情形發生,也就是說,數據光束22與原信號光束12的延伸方向會有夾角產生。此時,如果光檢測裝置20仍舊位于原信號光束12的延伸方向,會造成投影在光檢測裝置20的影像信息與光感測單元發生影像信息不對齊(Misalignment)的情形。也就是影像信息產生位移的情形發生,而嚴重時會造成數據錯誤無法還原。
請參照圖2(a),其所繪示為原數據平面上的影像信息。假設數據平面14解析度為2×2,其呈現的影像信息包含顯示單元14a、14d呈現亮的影像而顯示單元14b、14c呈現暗的影像。再者,如圖2(b)所示,假設光檢測裝置20的解析度與數據平面14解析度相同皆為2×2,也就是說,有四個光感測單元20a、20b、20c、20d。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于建興電子科技股份有限公司,未經建興電子科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610161109.9/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





