[發明專利]對光刻襯底上的正色調抗蝕劑層進行構圖的方法無效
| 申請號： | 200610160503.0 | 申請日： | 2006-10-08 |
| 公開（公告）號： | CN1945444A | 公開（公告）日： | 2007-04-11 |
| 發明（設計）人： | J·M·芬德斯 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027;G03F7/039;G03F7/26 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 劉紅;張志醒 |
| 地址： | 荷蘭費*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 襯底 色調 抗蝕劑層 進行 構圖 方法 | ||
【說明書】：
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