[發明專利]用于液晶顯示器的濾色片基板及其制造方法

有效

• 申請號: 200610152896.0
• 申請日: 2006-11-20
• 公開（公告）號: CN101055368A
• 公開（公告）日: 2007-10-17
• 發明（設計）人: 申世淙;金峰澈;李泰炯;全烘明;樸俊圭
• 申請（專利權）人: LG.菲利浦LCD株式會社
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1333;G03F7/20
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司
• 代理人: 徐金國;祁建國

1、一種用于液晶顯示器的濾色片基板，包括：

形成在透明絕緣基板上的黑矩陣以形成像素區域；

在黑矩陣上用透明感光材料形成的黑矩陣隔離物；和

在像素區域中形成的濾色片。

2、根據權利要求1所述的濾色片基板，其特征在于，黑矩陣和黑矩陣隔離物通過實施一次光刻工藝同時形成。

3、根據權利要求1所述的濾色片基板，其特征在于，黑矩陣由吸收光的黑樹脂形成。

4、根據權利要求1所述的濾色片基板，其特征在于，黑矩陣形成為具有1.0微米到1.5微米的厚度。

5、根據權利要求1所述的濾色片基板，其特征在于，黑矩陣隔離物的厚度可根據濾色片的厚度控制。

6、根據權利要求1所述的濾色片基板，其特征在于，黑矩陣隔離物形成為具有0.5微米到1.0微米的厚度。

7、根據權利要求1所述的濾色片基板，其中濾色片的厚度可形成為黑矩陣的厚度和黑矩陣隔離物的厚度的和的8/10到10/10。

8、一種用于液晶顯示器的濾色片基板的制造方法，該方法包括：

在透明絕緣基板上形成黑矩陣層；

在黑矩陣層上用透明感光材料形成黑矩陣隔離物層；

構圖黑矩陣層和黑矩陣隔離物層，以形成限定了像素區域的黑矩陣和黑矩陣隔離物；和

在像素區域中形成濾色片。

9、根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩陣和黑矩陣隔離物的步驟中，黑矩陣和黑矩陣隔離物通過實施一次光刻工藝同時形成。

10、根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩陣層的步驟中，黑矩陣層由吸收光的黑樹脂形成。

11、根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩陣層的步驟中，黑矩陣層形成為具有1.0微米到1.5微米的厚度。

12、根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩陣隔離物層的步驟中，黑矩陣隔離層由干膜法形成。

13、根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩陣隔離物層的步驟中，可以控制黑矩陣隔離物層的厚度以對應于濾色片的厚度。

14、根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩陣隔離物層的步驟中，黑矩陣隔離物層形成為具有0.5微米到1.0微米的厚度。

15、根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在形成濾色片時，濾色片由噴墨方式形成。

16、根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在形成濾色片時，濾色片的厚度可形成為黑矩陣層的厚度和黑矩陣隔離物層的厚度的和的8/10到10/10。