[發(fā)明專利]光刻裝置和器件制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610151872.3 | 申請日： | 2006-09-13 |
| 公開（公告）號： | CN1932650A | 公開（公告）日： | 2007-03-21 |
| 發(fā)明（設計）人： | E·R·盧普斯特拉;E·A·F·范德帕斯 | 申請（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;譚祐祥 |
| 地址： | 荷蘭費*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光刻 裝置 器件 制造 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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