[發明專利]薄膜圖案層及其制造方法

無效

• 申請號: 200610149773.1
• 申請日: 2006-11-27
• 公開（公告）號: CN101191857A
• 公開（公告）日: 2008-06-04
• 發明（設計）人: 周景瑜;陳文卿
• 申請（專利權）人: ICF科技有限公司
• 主分類號: G02B5/23
• 分類號: G02B5/23;B41J2/01;G03F7/20
• 代理公司: 北京申翔知識產權代理有限公司
• 代理人: 周春發

1.一種薄膜圖案層，包括：

一個基板；

形成于基板上的多個擋墻，該多個擋墻間形成多個收容空間，該收容空間呈行列狀排列；及

多個形成在收容空間內的薄膜層；

其特征在于：每行中的薄膜層厚度的分布是無規律的。

2.如權利要求1所述的薄膜圖案層，其特征在于，所述的基板材料選自玻璃、石英玻璃、硅晶圓、金屬和塑料。

3.如權利要求1所述的薄膜圖案層，其特征在于，所述的多個薄膜層包括第一薄膜層、第二薄膜層及第三薄膜層，其中，每相鄰三行的收容空間內分別以第一薄膜層、第二薄膜層及第三薄膜層為順序排列。

4.如權利要求1所述的薄膜圖案層，其特征在于，所述的基板與多個擋墻為一體成型結構。

5.一種薄膜圖案層的制造方法，包括以下步驟：

提供一個基板，其表面具有多個擋墻，該多個擋墻間形成多個收容空間，該收容空間呈行列狀排列在基板上；

填充墨水至該多個收容空間內，使填充至同行中每個收容空間中的同種材料的墨水體積的分布是無規律的；及

固化墨水以形成多個薄膜層，使每行中收容空間中，同種材料的薄膜層厚度分布是無規律的。

6.如權利要求5所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的多個擋墻通過以下分步驟形成：

在該基板上表面涂覆一個光阻材料層；

將具有預定擋墻圖案的光罩設在該光阻材料層與一個曝光機光源間，并曝光該光阻材料層；

利用顯影方式將非擋墻圖案部分的光阻材料層去除，形成設在基板上表面的多個擋墻。

7.如權利要求5所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的多個擋墻通過以下分步驟形成：

提供一個射出成型機及一個具有預定擋墻圖案的模具；

利用射出成型機將基板材料射出至該模具中；

脫模，得到該表面具有多個擋墻的基板。

8.如權利要求7所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的基板材料選自玻璃、石英玻璃、金屬和塑料。

9.如權利要求5所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的填充至每相鄰三行收容空間中的墨水包括第一薄膜材料、第二薄膜材料及第三薄膜材料，其中，每相鄰三行的收容空間內分別以第一薄膜層、第二薄膜層及第三薄膜層為順序填充。

10.如權利要求5所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的填充步驟是利用一個噴墨裝置將墨水填充至收容空間內，且該噴墨裝置至少包括一個噴頭及一個位于該噴頭上的噴墨孔。

11.如權利要求10所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的噴墨裝置是熱泡式噴墨裝置和壓電式噴墨裝置的一種。

12.如權利要求5所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的固化步驟是利用一個加熱裝置及/或一個抽真空裝置、或一個發光裝置固化墨水。

13.如權利要求12所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的發光裝置是一個紫外線發光裝置。

14.如權利要求10所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的無規律分布的墨水體積是以控制施加于該噴墨裝置的噴頭上的噴墨孔的電壓為無規律變化的方式所形成。

15.如權利要求14所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的電壓無規律變化是指電壓大小或電壓波形有變化。

16.如權利要求15所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的電壓大小的變化范圍為一個標準電壓或平均電壓的80％至120％。

17.如權利要求10所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的無規律分布的墨水體積是以填入收容空間的墨水滴數量以無規律變化的方式所形成。

18.如權利要求17所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于，所述的墨水滴數量的變化范圍為標準墨水滴數量或平均墨水滴數量的80％至120％。