[發明專利]動態光在線粒徑量測與控制系統

無效

• 申請號: 200610149712.5
• 申請日: 2006-10-23
• 公開（公告）號: CN101169630A
• 公開（公告）日: 2008-04-30
• 發明（設計）人: 蘇志杰;周大鑫;蔡禎輝
• 申請（專利權）人: 財團法人工業技術研究院
• 主分類號: G05B19/048
• 分類號: G05B19/048;G01N15/02
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 孫皓晨

1.一種動態光在線粒徑量測與控制系統，其特征在于，包含有：

一加工設備；

一擷取單元，其與所述加工設備相連接以從所述加工設備擷取檢驗所需的一樣品；

一動態光散射粒徑檢測單元，其與所述擷取單元相連接，所述動態光散射粒徑檢測單元分析所述樣品的粒徑分布以提供一檢測信息；以及

一控制單元，其接收所述檢測信息，并產生對應的控制參數給所述加工設備。

2.如權利要求1所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特征在于，其還包括有一儲存筒與所述擷取單元以及所述加工設備形成一循環回路。

3.如權利要求1所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特征在于，所述擷取單元還具有：

一主傳輸管路，其具有一流量控制閥，以控制所述主傳輸管路的流量；

一次傳輸管路，其與所述主傳輸管路相連接，所述次傳輸管路上還具有與所述動態光散射粒徑檢測單元相耦接的一量測槽；以及

一止回閥以防止主傳輸管路的產物回流至所述次傳輸管路。

4.如權利要求1所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特征在于，所述擷取單元還具有：

一透明載體，其以一通道與所述加工設備相連接，以從所述加工設備內擷取檢測所需的樣品；

一包覆層，其包覆在所述透明載體上；

一棱鏡，其設置在所述透明載體內，其是可反射所述動態光散射粒徑檢測單元所產生的一偵測光至所述通道內；以及

一接收器，其設置在所述透明載體內且與所述動態光散射粒徑檢測單元相連接。

5.如權利要求1所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特征在于，所述擷取單元還具有：

一傳輸管路，其與所述加工設備形成一回路；

一透明載體，其以一通道與所述回路相連接，以從所述加工設備內擷取檢測所需的樣品；

一包覆層，其包覆在所述透明載體上；

一棱鏡，其設置在所述透明載體內，其反射所述動態光散射粒徑檢測單元所產生的一偵測光至所述通道內；以及

一接收器，其設置在所述透明載體內且與所述動態光散射粒徑檢測單元相連接。

6.如權利要求1所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特征在于，所述擷取單元還具有：

一管體，其與所述加工設備形成一循環回路，所述管體上開設有一開孔；

一擷取器，其設置在所述開孔上，所述擷取器具有：

一擷取探頭，其在一第一動作時通過所述開孔在所述管體內以一擷取槽擷取檢測用樣品，而在一第二動作時關閉所述開孔；以及

一光纖探頭，其與所述擷取槽相連接。

7.如權利要求1所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特征在于，所述加工設備還開設有一開口，所述擷取單元還具有：

一擷取器，其設置在所述開口上，所述擷取器具有：

一擷取探頭，其在一第一動作時通過所述開口以一擷取槽擷取檢測用樣品，而在一第二動作時關閉所述開口；以及

一光纖探頭，其與所述擷取槽相連接，并與所述動態光散射粒徑檢測單元連接，測得樣品粒徑，再反饋至所述控制單元。

8.一種動態光在線粒徑量測與控制系統，其特征在于，其包含有：

一干式加工設備；

一濕化單元，其與所述干式加工設備相連接，所述濕化單元擷取所述干式加工設備的產物以形成一濕式樣品；

一分散單元，其與所述濕化單元相連接，所述分散單元擷取所述濕式樣品以分散所述濕式樣品形成一檢測樣品；

一擷取單元，其與所述分散單元相連接以擷取所述檢測樣品；

一動態光散射粒徑檢測單元，其與所述擷取單元相連接，所述動態光散射粒徑檢測單元分析所述樣品的粒徑分布以提供一檢測信息；以及

一控制單元，其接收所述檢測信息，并產生對應的控制參數給所述干式加工設備。

9.如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特征在于，所述濕化單元為水洗塔型式、噴霧裝置收集或油式收集其中之一。

10.如權利要求8所述的動態光在線粒徑量測與控制系統，其特征在于，所述分散單元為攪拌器、超音波振動裝置、珠(球)磨設備、高速射流設備其中之一。