[發(fā)明專利]等離子導(dǎo)引機構(gòu)及應(yīng)用該導(dǎo)引機構(gòu)的等離子放電裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610149604.8
• 申請日: 2006-10-10
• 公開（公告）號: CN101163370A
• 公開（公告）日: 2008-04-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 洪昭南;徐逸明;梁國超;王俊堯;李志勇;王亮鈞;陳俊欽;陳彥政
• 申請（專利權(quán)）人: 馗鼎奈米科技股份有限公司
• 主分類號: H05H1/34
• 分類號: H05H1/34
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 徐金國;梁揮

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種等離子導(dǎo)引機構(gòu)，尤其涉及一種適用于等離子放電裝置的等離子導(dǎo)引機構(gòu)。

背景技術(shù)

等離子的組成包括有電子、離子以及電中性粒子。其中等離子產(chǎn)生的方式，是將所需的氣體通入一容器內(nèi)，在某一氣壓下加入直流電源、射頻(RadioFrequency)或微波(Microwave)能量來源，利用電容式(Capacitive)、電感式(Inductive)或粒子與波交互作用的方式，使氣體崩潰(Breakdown)游離，可以運用于切割、熔接以及各種材料的表面處理等工業(yè)。

等離子放電裝置，例如等離子炬(Plasma?Torch)是一種電弧式大氣等離子放電裝置，將等離子能量聚集在一小的體積范圍內(nèi)，將漩流工作氣體部份離子化，使工作氣體產(chǎn)生活化反應(yīng)，在高功率高能量密度的條件之下提供相對低溫的噴射等離子。由于電弧式大氣等離子放電密度高，處理速度快，因此適用于各種領(lǐng)域的表面處理。然而電弧式大氣等離子無法同時產(chǎn)生大面積的電弧放電，僅能提供點狀的噴射等離子，使其應(yīng)用受到限制。

為了解決此問題，美國專利編號第6262386號揭示了一種等離子炬，其外電極具有斜角式旋轉(zhuǎn)噴嘴，當(dāng)?shù)入x子由作圓周旋轉(zhuǎn)的斜角式旋轉(zhuǎn)噴嘴噴出時，可增加等離子噴射面積，達到擴大處理面積的效果。然而，等離子炬通過電弧放電來產(chǎn)生等離子，由內(nèi)電極放電端所產(chǎn)生的電流必須經(jīng)過轉(zhuǎn)動中的外電極與軸承始能接地導(dǎo)通，但外電極在高速旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，會使導(dǎo)通的電流不穩(wěn)而影響等離子炬表面處理的效率。另外旋轉(zhuǎn)軸承容易因為電流加熱造成溫度上升而導(dǎo)致使用壽命減少。又因為旋轉(zhuǎn)中的機構(gòu)不易與冷卻裝置搭配，導(dǎo)致等離子炬長期在高溫下工作而降低其使用壽命。

美國專利編號第6262356號揭示了另一種等離子炬，將噴出電弧式等離子的開口設(shè)計成條狀窄孔噴嘴，使噴出的等離子呈現(xiàn)線狀，借以提供較大等離子噴射面積。然而，由于此種設(shè)計電弧放電所產(chǎn)生的電流會加熱噴嘴，使噴嘴因高熱而變形。又由于從條狀窄孔噴出的等離子呈燕尾狀，容易產(chǎn)生窄孔端點的等離子噴射速度與等離子密度不均的現(xiàn)象。且由于等離子的開口為條狀設(shè)計在處理具有高低落差的表面時，會有死角的問題發(fā)生。

因此，有需要提供一種可提高等離子放電裝置的等離子噴射面積以及使用壽命長、且可提供等離子多種噴射角度的等離子導(dǎo)引裝置。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種可提高等離子放電裝置的等離子噴射面積、延長使用壽命以及提供等離子放電裝置多種噴射角度的等離子導(dǎo)引機構(gòu)。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所提供的等離子導(dǎo)引機構(gòu)包括：套接于等離子放電裝置上的殼體，通過殼體與等離子放電裝置定義出第一腔室第二腔室，其中等離子放電裝置通過電弧放電在第一腔室內(nèi)生等離子，第一腔室與第二腔室聯(lián)通，且第二腔室的側(cè)壁具有長形窄孔，用來導(dǎo)引電由長形窄孔噴出該殼體外部。另外等離子導(dǎo)引機構(gòu)較佳還包括多個凸塊位于腔室之中，并且突出于殼體的內(nèi)側(cè)側(cè)壁上。

本發(fā)明的另一目的就是在提供一種具有較高等離子噴射面積以及使用壽命的等離子放電裝置。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一等離子放電裝置，包括：具有管殼部的外電極、絕緣層、內(nèi)電極以及等離子導(dǎo)引機構(gòu)。絕緣層位于管殼部的內(nèi)側(cè)側(cè)壁上。內(nèi)電極設(shè)于管殼部內(nèi)，通過內(nèi)電極與外電極電弧放電來產(chǎn)生等離子噴出管殼部。等離子導(dǎo)引機構(gòu)包括套接于該管殼部上的殼體，通過殼體與該管殼部定義出一第一腔室及一第二腔室，其中第一腔室用來容納等離子，且第一腔室與第二腔室聯(lián)通，第二腔室的側(cè)壁具有長形窄孔，用來導(dǎo)引等離子由長形窄孔噴出殼體外部。其中殼體和管殼部較佳為一體成形。

本發(fā)明的又一目的就是在提供一種由多個上述的等離子放電裝置所排列組裝而成，可提供平面噴射等離子的等離子放電裝置。

根據(jù)以上所述的較佳實施例，本發(fā)明的特征采用改良式的等離子導(dǎo)引機構(gòu)和等離子放電裝置相結(jié)合，用來與等離子產(chǎn)生裝置定義出兩個互相連通的腔室，可容納并導(dǎo)引等離子由一個長型窄孔噴出，借以提供均勻的線狀噴射等離子，可改善現(xiàn)有技術(shù)等離子密度不均的問題，并增加等離子噴射面積。另外再搭配位于長型窄孔外側(cè)的多個檔片，即可提供線狀等離子在不同部位具有多種不同的噴射角度、噴射寬度、強度與距離。又由于本發(fā)明所提供的等離子導(dǎo)引機構(gòu)為固定機構(gòu)，且構(gòu)造簡單，可搭配冷卻系統(tǒng)用來降低等離子放電裝置以及噴射等離子的溫度，借以延長等離子放電裝置的使用壽命。

因此，本發(fā)明所提供的等離子導(dǎo)引機構(gòu)確實具有提高等離子放電裝置的等離子噴射面積、延長使用壽命以及提供多樣等離子噴射角度的優(yōu)點。

附圖說明