[發(fā)明專利]評估顯影能力的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610148811.1 | 申請日： | 2006-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN101211115A | 公開（公告）日： | 2008-07-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 郁志芳;章磊;余云初;王躍剛 | 申請（專利權(quán)）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 逯長明 |
| 地址： | 201203*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 評估 顯影 能力 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種評估顯影能力的方法，其特征在于，包括下列步驟：
在控片上形成光刻膠層；
測量光刻膠層得到第一厚度；
對光刻膠層進行顯影；
測量顯影后光刻膠層得到第二厚度；
將光刻膠層的第一厚度減去第二厚度，獲得光刻膠層的厚度差，厚度差越大顯影能力越強。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評估顯影能力的方法，其特征在于：形成光刻膠層的方法為旋涂法。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的評估顯影能力的方法，其特征在于：測量光刻膠層厚度的儀器為橢圓偏振儀或臺階儀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評估顯影能力的方法，其特征在于：所述顯影液為四甲基氫氧化氨。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的評估顯影能力的方法，其特征在于：所用顯影機臺為TEL?ACT8或TEL?MK8。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評估顯影能力的方法，其特征在于：所述控片為空白晶圓。
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾愃朴∷⒛５闹谱?，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾愃朴∷⒛５闹谱?，例如，鏤花模版的制作
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G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
