[發(fā)明專(zhuān)利]光掩模及其制作方法與圖案定義的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200610148664.8
• 申請(qǐng)日: 2006-11-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101191997A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 丁景隆;王程麒
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 奇美電子股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F1/14
• 分類(lèi)號(hào): G03F1/14;G03F7/20;B41J2/01;H01L21/027
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 陶鳳波

1.一種光掩模，包括：

光掩模基板，該光掩模基板的表面劃分為圖案區(qū)以及該圖案區(qū)之外的非圖案區(qū)；

遮蔽圖案，配置于該圖案區(qū)內(nèi)；以及

多個(gè)凸起件，配置于該非圖案區(qū)內(nèi)，該些凸起件相對(duì)于該表面的高度大于該遮蔽圖案的厚度。

2.如權(quán)利要求1所述的光掩模，其中該些凸起件相對(duì)于該表面的高度介于30微米至150微米。

3.一種光掩模的制作方法，包括：

提供光掩模基板，該光掩模基板的表面劃分為圖案區(qū)以及該圖案區(qū)之外的非圖案區(qū)；

于該光掩模基板的該圖案區(qū)內(nèi)形成遮蔽圖案；以及

于該光掩模基板的該非圖案區(qū)內(nèi)形成多個(gè)凸起件，該些凸起件相對(duì)于該表面的高度大于該遮蔽圖案的厚度。

4.如權(quán)利要求3所述的光掩模的制作方法，其中形成該些凸起件的方法包括進(jìn)行噴墨工藝。

5.如權(quán)利要求3所述的光掩模的制作方法，其中形成該些凸起件的方法包括進(jìn)行光刻工藝。

6.如權(quán)利要求3所述的光掩模的制作方法，其中形成該些凸起件的方法包括進(jìn)行貼附工藝。

7.一種圖案定義的方法，包括：

提供待定義基板，其中該待定義基板上依序配置有材料層以及光致抗蝕劑層；

提供如權(quán)利要求1所述的光掩模；

定位該待定義基板與該光掩模的相對(duì)位置；

使該光掩模的該些凸起件接觸該待定義基板；

使用該光掩模對(duì)該光致抗蝕劑層進(jìn)行曝光工藝與顯影工藝，以形成圖案化光致抗蝕劑層；以及

以該圖案化光致抗蝕劑層為掩模而圖案化該材料層。

8.如權(quán)利要求7所述的圖案定義的方法，其中在使該些凸起件接觸該待定義基板之前，還包括移除與該些凸起件的位置相對(duì)應(yīng)的部分該光致抗蝕劑層，以暴露部分該材料層。

9.如權(quán)利要求7所述的圖案定義的方法，其中在該些凸起件接觸該待定義基板后，是使該光掩模基板的該表面與該光致抗蝕劑層維持一間距，且該間距介于30微米至150微米。

10.如權(quán)利要求7所述的圖案定義的方法，其中圖案化該材料層的方法包括進(jìn)行蝕刻工藝。