[發明專利]一種可提高缺陷檢驗可靠性的方法有效
| 申請號： | 200610148090.4 | 申請日： | 2006-12-27 |
| 公開（公告）號： | CN101210932A | 公開（公告）日： | 2008-07-02 |
| 發明（設計）人： | 田明靜 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G01N35/00 | 分類號： | G01N35/00;H01L21/66;G01R31/28 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人： | 王潔 |
| 地址： | 2012*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 提高 缺陷 檢驗 可靠性 方法 | ||
1.一種可提高缺陷檢驗可靠性的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：
a.在每一進行缺陷檢驗的掩膜的非圖形區域上制作一標準缺陷單元；
b.存儲該標準缺陷單元對應的基準圖形及基本缺陷捕獲圖形；
c.將該掩膜設置在檢驗機臺上進行缺陷檢驗并測得該標準缺陷單元的圖形；
d.將所測得的標準缺陷單元的圖形與其基準圖形進行對比來得到該標準缺陷單元的實際缺陷捕獲圖形；
e.判斷該實際缺陷捕獲圖形是否完全包括該基本缺陷捕獲圖形并依據判斷結果決定是否繼續進行缺陷檢驗。
2.如權利要求1所述的可提高缺陷檢驗可靠性的方法，其特征在于：該方法的步驟e中如果判斷結果為是則繼續進行掩膜上其他區域的缺陷檢驗，如果判斷結果為否則停止缺陷檢驗并依據實際缺陷捕獲圖形調節檢驗機臺直至實際缺陷捕獲圖形完全包括該標準缺陷捕獲圖形。
3.如權利要求1所述的可提高缺陷檢驗可靠性的方法，其特征在于：該標準缺陷單元的圖形與掩膜主圖形具相同的設計規則。
4.如權利要求1所述的可提高缺陷檢驗可靠性的方法，其特征在于，該標準缺陷單元的缺陷尺寸為從左至右單調遞變。
5.如權利要求1所述的可提高缺陷檢驗可靠性的方法，其特征在于，該標準缺陷單元每一行代表一種缺陷類型。
6.一種可提高缺陷檢驗可靠性的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：
a.在每一進行缺陷檢驗的掩膜的非圖形區域上制作一標準缺陷單元及一對應的基準圖形單元；
b.存儲該標準缺陷單元對應的基本缺陷捕獲圖形；
c.將該掩膜設置在檢驗機臺上進行缺陷檢驗并測得該標準缺陷單元及該基準圖形單元的圖形；
d.將所測得的標準缺陷單元及該基準圖形單元的圖形進行對比來得到該標準缺陷單元的實際缺陷捕獲圖形；
e.判斷實際缺陷捕獲圖形是否完全包括其基本缺陷捕獲圖形并依據判斷結果決定是否繼續進行缺陷檢驗。
7.如權利要求6所述的可提高缺陷檢驗可靠性的方法，其特征在于：該方法的步驟e中如果判斷結果為是則繼續進行掩膜上其他區域的缺陷檢驗，如果判斷結果為否則停止缺陷檢驗并依據實際缺陷捕獲圖形調節檢驗機臺直至實際缺陷捕獲圖形完全包括該標準缺陷捕獲圖形。
8.如權利要求6所述的可提高缺陷檢驗可靠性的方法，其特征在于：該標準缺陷單元的特征圖形與掩膜主圖形具相同的設計規則。
9.如權利要求6所述的可提高缺陷檢驗可靠性的方法，其特征在于，該標準缺陷單元中的缺陷尺寸為從左至右單調遞變。
10.如權利要求6所述的可提高缺陷檢驗可靠性的方法，其特征在于，該標準缺陷單元每一行代表一種缺陷類型。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中芯國際集成電路制造（上海）有限公司，未經中芯國際集成電路制造（上海）有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200610148090.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
