[發明專利]清洗厚膜光刻膠的清洗劑無效
| 申請號： | 200610147346.X | 申請日： | 2006-12-15 |
| 公開（公告）號： | CN101201557A | 公開（公告）日： | 2008-06-18 |
| 發明（設計）人： | 彭洪修;史永濤;劉兵;曾浩 | 申請（專利權）人： | 安集微電子（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/42 | 分類號： | G03F7/42;G03F7/32;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海虹橋正瀚律師事務所 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203上海市浦東新區張江高科*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 清洗 光刻 洗劑 | ||
1.一種清洗厚膜光刻膠的清洗劑，其特征在于含有：二甲基亞砜、氫氧化鉀、烷基醇胺和烷基二醇單苯基醚。
2.如權利要求1所述的清洗劑，其特征在于：所述的二甲基亞砜的含量為質量百分比35～95％。
3.如權利要求2所述的清洗劑，其特征在于：所述的含量為質量百分比60～95％。
4.如權利要求1所述的清洗劑，其特征在于：所述的氫氧化鉀的含量為質量百分比0.1～5％。
5.如權利要求4所述的清洗劑，其特征在于：所述的含量為質量百分比0.5～3％。
6.如權利要求1所述的清洗劑，其特征在于：所述的烷基醇胺的含量為質量百分比0.1～20％。
7.如權利要求6所述的清洗劑，其特征在于：所述的含量為質量百分比0.5～10％。
8.如權利要求1所述的清洗劑，其特征在于：所述的烷基二醇單苯基醚的含量為質量百分比1～40％。
9.如權利要求8所述的清洗劑，其特征在于：所述的含量為質量百分比5～25％。
10.如權利要求1所述的清洗劑，其特征在于：所述的烷基醇胺為單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺或異丙醇胺。
11.如權利要求1所述的清洗劑，其特征在于：所述的烷基二醇單苯基醚為乙二醇單苯基醚、丙二醇單苯基醚、異丙二醇單苯基醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單苯基醚或二異丙二醇單苯基醚。
12.如權利要求1所述的清洗劑，其特征在于：所述的清洗劑還含有緩蝕劑。
13.如權利要求12所述的清洗劑，其特征在于：所述的緩蝕劑的含量為小于或等于質量百分比5％。
14.如權利要求13所述的清洗劑，其特征在于：所述的含量為質量百分比0.05～2％。
15.如權利要求12所述的清洗劑，其特征在于：所述的緩蝕劑為苯并三氮唑、2-巰基苯并噁唑或2-巰基苯并噻唑。
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