[發(fā)明專利]單粒子束刻蝕薄膜的單納米孔制作方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610147232.5 | 申請日： | 2006-12-14 |
| 公開（公告）號： | CN1986383A | 公開（公告）日： | 2007-06-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王志民 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海交通大學(xué) |
| 主分類號： | B81B1/00 | 分類號： | B81B1/00;B81C5/00;G01N27/28;G01N27/416 |
| 代理公司： | 上海交達(dá)專利事務(wù)所 | 代理人： | 王錫麟;張宗明 |
| 地址： | 200240*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 粒子束 刻蝕 薄膜 納米 制作方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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