[發(fā)明專利]平面燈源及其制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200610146485.0
• 申請日: 2006-11-13
• 公開（公告）號: CN101183629A
• 公開（公告）日: 2008-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張昭仁;許政凱;哀嘉華
• 申請（專利權(quán)）人: 中華映管股份有限公司
• 主分類號: H01J9/02
• 分類號: H01J9/02;H01J9/22;H01J9/00;H01J61/04;H01J61/35;H01J61/38
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
• 代理人: 郭蔚

1.一種平面燈源的制造方法，包含：

提供一第一基板及一第二基板，該第二基板系平行該第一基板，且該第二基板的表面系設(shè)置有多數(shù)電極；

形成一第一介電層覆蓋具有該些電極的該第二基板的表面；

形成一第一光阻膜于該第一介電層的表面，并經(jīng)由光學(xué)微影制作工藝形成一第一圖案；

形成一第二介電層于該第一介電層的表面，且覆蓋于該第一圖案之上；

形成一第二光阻膜于該第二介電層的表面，并經(jīng)由光學(xué)微影制作工藝形成一第二圖案；

以該第一圖案作為一蝕刻終止層及以該第二圖案作為一遮罩，移除部份該第二介電層，使該第二介電層形成為多數(shù)突起結(jié)構(gòu)；

移除該第一圖案及該第二圖案；

涂布一熒光層于該第二基板表面及該第一、第二介電層的外表面；及

填充一放電氣體于該第一基板及該第二基板之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面燈源之制造方法，其特征在于，是利用網(wǎng)刷技術(shù)或涂布機(jī)涂布形成該第一介電層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面燈源之制造方法，其特征在于，是利用網(wǎng)刷技術(shù)或涂布機(jī)涂布形成該第二介電層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面燈源之制造方法，其特征在于，是通過一噴砂技術(shù)移除部份該第二介電層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面燈源之制造方法，其特征在于，是通過一蝕刻技術(shù)移除部份該第二介電層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面燈源之制造方法，其特征在于，該第一光阻膜是一干式光阻膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面燈源之制造方法，其特征在于，該第二光阻膜是一干式光阻膜。

8.一種平面燈源，包含：

一第一基板；

一第二基板，平行該第一基板；

多數(shù)電極，設(shè)置于該第二基板上；

多數(shù)介電結(jié)構(gòu)，每一該些介電結(jié)構(gòu)分別覆蓋該些電極之其中之一，且該介電結(jié)構(gòu)的表面具有多數(shù)突起結(jié)構(gòu)；

一熒光層，設(shè)于該第二基板表面及每一該介電結(jié)構(gòu)的外表面；及

一放電氣體，填充于該第一基板及該第二基板之間。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的平面燈源，其特征在于，該第一基板表面設(shè)有該熒光層。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的平面燈源，其特征在于，該第二基板及該多數(shù)電極之間設(shè)有一反射層。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的平面燈源，其特征在于，該電極是金屬電極。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的平面燈源，其特征在于，該第一基板及該第二基板之間設(shè)置有多數(shù)阻隔壁，該阻隔壁的側(cè)壁上設(shè)有該熒光層。

13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的平面燈源，其特征在于，該介電結(jié)構(gòu)系延伸接觸至該第一基板。

14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的平面燈源，其特征在于，該第一基板及該第二基板之材質(zhì)為玻璃。

15.根據(jù)權(quán)利要求8所述的平面燈源，其特征在于，該放電氣體是一惰性氣體。