[發明專利]光機模塊

無效

• 申請號: 200610142395.4
• 申請日: 2006-10-11
• 公開（公告）號: CN101162357A
• 公開（公告）日: 2008-04-16
• 發明（設計）人: 郭建峰
• 申請（專利權）人: 明基電通股份有限公司
• 主分類號: G03B21/14
• 分類號: G03B21/14
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 陳小雯;李曉舒

技術領域

本發明涉及一種光機模塊及其組裝方法，特別是涉及一種可調整投影鏡頭以及數字微鏡元件的平行度的光機模塊及其組裝方法。

背景技術

數字光學處理(digital?light?processing，DLP)投影機主要包括投影鏡頭、光機(light?engine)、數字微鏡元件(digital?micro-mirror?device，DMD)以及燈泡。燈泡用以提供光線投射到光機上的數字微鏡元件，再經由投影鏡頭將影像投射而出。

由于數字光學處理投影機通過投影鏡頭成像，對投影鏡頭而言，數字微鏡元件為一物。因此當數字微鏡元件與投影鏡頭的距離改變時，成像距離也隨之變動。由于數字微鏡元件是由許多鏡面元件組成，每個鏡面元件是對應到影像中各個畫素。若是數字微鏡元件上不同位置的鏡面元件與投影鏡頭之間的距離不為一定值，則無法將各畫素同時成像在同一個平面上。此時聚焦的品質將無法達到最佳化，亦即無法于一屏幕上將影像清楚的呈現出來。因此投影鏡頭以及數字微鏡元件之間的平行度影響投射畫面品質的一重要因素。

數字光學處理投影機中，投影鏡頭以及數字微鏡元件主要裝設在光機機殼上。投影鏡頭本身由多個透鏡組合而成，而數字微鏡元件也有其本身的承靠面。因此，投影鏡頭以及數字微鏡元件之間的平行度受到光機機殼的公差、投影鏡頭本身的組裝公差以及數字微鏡元件與其本身承靠面之組裝公差三項因素所影響。此三項因素所累積的公差對于聚焦的品質影響甚巨。若是單就機殼、投影鏡頭以及數字微鏡元件分別著手去改善其公差，所花費的成本非常高且不適于量產。

發明內容

有鑒于此，本發明的目的在于提供一種光機模塊及其組裝方法，在光機模塊的光機機殼上設計撓性結構，運用撓性結構的特性，在組裝光機模塊的過程中調整投影鏡頭及數字微鏡元件的平行度。用以解決光機機殼、投影鏡頭以及數字微鏡元件的累積公差所造成的成像問題。

根據本發明的目的，提出一種光機模塊，包括一支撐結構、一第一模塊及一第二模塊。支撐結構包括一本體部及一調整部。本體部具有相對的第一平面及第二平面。調整部包括第一撓性件及第二撓性件，分別凸設于本體部，并突出于第二平面。第一模塊設置于第一平面。第二模塊設置于第二平面之上，并抵靠于第一撓性件以及第二撓性件。其中，通過調整調整部而調整第二模塊的設置平面，以由此調整第一模塊及第二模塊的平行度。

根據本發明的另一目的，提出一種光機模塊的組裝方法，首先，提供一支撐結構。支撐結構包括一本體部及一調整部。本體部具有相對的第一平面及第二平面，調整部包括第一撓性件及第二撓性件，分別凸設于本體部，并突出于第二平面。接著，將一第一模塊設置于第一平面上。然后，預設置一第二模塊于第二平面之上，使第一撓性件及第二撓性件抵靠于第二模塊上。接著，產生一光線通過第一模塊及第二模塊，以投射一影像于一屏幕上。然后，根據影像，施壓或釋放第一撓性件與第二撓性件，使得第二模塊被轉動，由此調整第一模塊及第二模塊的平行度。

為讓本發明的上述目的、特征、和優點能更明顯易懂，下文特舉一較佳實施例，并配合所附圖式，作詳細說明如下：

附圖說明

【圖式簡單說明】

第1圖繪示乃依照本發明一較佳實施例之投影裝置的示意圖。

第2A圖繪示乃第1圖投影裝置之支撐結構的構造圖。

第2B圖繪示乃第2A圖支撐結構的前視圖。

第3A圖繪示乃第1圖投影裝置的光機模塊之部份示意圖。

第3B圖繪示乃第3A圖光機模塊之前視圖。

第4圖繪示乃第1圖投影裝置的聚焦調整之示意圖。

第5圖繪示乃第1圖投影裝置的光機模塊組裝調整之流程圖。

【主要元件符號說明】

1：投影裝置

2：屏幕

10：外殼

20：支撐結構

22：本體部

22A：第一鎖孔

24：調整部

30：第一模塊

40：第二模塊

40A：第二鎖孔

50：燈泡

60：反射鏡片

70：鎖件

71：第一螺絲

72：第二螺絲

73：第三螺絲

74：第四螺絲

224：基座

224A：第一平面

226：間隔材

226A：第二平面

242：第一撓性件

244：第二撓性件

d₁：第一垂直距離

d₂：第二垂直距離