[發明專利]形成蝕刻掩模的方法無效
| 申請號： | 200610138003.7 | 申請日： | 2006-11-02 |
| 公開（公告）號： | CN1959529A | 公開（公告）日： | 2007-05-09 |
| 發明（設計）人： | 權奇清;李來應;樸昌基;李春熙;金德鎬 | 申請（專利權）人： | 周星工程股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 | 代理人： | 王允方;劉國偉 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 形成 蝕刻 方法 | ||
【說明書】：
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