[發明專利]對計算機斷層造影系統進行輻射校正的方法無效
| 申請號： | 200610130926.8 | 申請日： | 2006-10-10 |
| 公開（公告）號： | CN101028195A | 公開（公告）日： | 2007-09-05 |
| 發明（設計）人： | 赫伯特·布魯德;馬丁·彼得西爾卡;雷納·勞佩克;卡爾·施蒂爾斯托弗 | 申請（專利權）人： | 西門子公司 |
| 主分類號： | A61B6/03 | 分類號： | A61B6/03;A61B6/00;G01T1/161 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 楊梧;郝俊梅 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 計算機 斷層 造影 系統 進行 輻射 校正 方法 | ||
【說明書】：
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