[發明專利]一種不銹鋼蝕刻工藝無效
| 申請號: | 200610123185.0 | 申請日: | 2006-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN101173360A | 公開(公告)日: | 2008-05-07 |
| 發明(設計)人: | 李三旭 | 申請(專利權)人: | 佛山市順德區漢達精密電子科技有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/28 | 分類號: | C23F1/28;C23F1/02 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 不銹鋼 蝕刻 工藝 | ||
技術領域
本發明涉及一種金屬表面處理工藝,特別是涉及一種不銹鋼表面處理工藝。
背景技術
不銹鋼具有硬度高、耐磨、穩定性好、耐沖擊強等特性,且不銹鋼經蝕刻得到的產品無機械加工的邊緣應力,已經在國防、電子、電器等方面得到了廣泛的應用,特別是在裝飾性標牌及外殼方面應用更廣。但是,由于不銹鋼的高硬度和高穩定性,與強酸強堿不反應或反應太緩慢,限制了不銹鋼蝕刻加工產品的應用。
發明內容
鑒于以上問題,本發明的主要目的在于提供一種不銹鋼蝕刻溶液,該溶液制程簡單,蝕刻速度快。
為達到上述目的,本發明提供的不銹鋼蝕刻溶液,其主要包括以下組分:
三氯化鐵???????????400~600g/L;
鹽酸???????????????2~5g/L;
氟化氫銨???????????1~2g/L;
硫脲???????????????2.5~5g/L;
蝕刻促進劑?????????1~5g/L;
再生劑?????????????2~5g/L。
其中,所述蝕刻促進劑優選為過氧化氫;所述再生劑優選為次氯酸;所述硫脲用作緩蝕劑及防側蝕劑。
另外,本發明的另一目的則在于提供一種不銹鋼蝕刻工藝,其工藝簡單,操作方便。
化學蝕刻是通過化學反應利用化學溶液的腐蝕作用將不需要的金屬快速溶解除掉的過程。
本發明提供的該種不銹鋼蝕刻工藝,其步驟基本如下:
1.前處理,其主要包括脫脂、活化等步驟,其用以將初始不銹鋼工件進行清洗、除油等表面清潔;
2.涂布,該步驟可包括制作菲霖、曝光顯影、制作網板、絲印等步驟,而通常是將上述處理后的不銹鋼工件其表面涂覆感光膠,再按照加工圖樣進行感光膠的曝光,而后進行顯影及堅膜處理;
3.蝕刻,利用上述配制的不銹鋼蝕刻溶液腐蝕該不銹鋼工件之暴露金屬部位;
4.脫膜,待上述腐蝕到一定程度,再將其表面剩余的膠膜用溶解液去掉,最后用水清洗干凈而得到蝕刻加工工件產品。
因此,本發明提供的不銹鋼蝕刻工藝將不銹鋼的活化及蝕刻融合在一起進行,使工藝變得更簡單,另外,于不銹鋼蝕刻溶液中加入蝕刻促進劑,以加快蝕刻速度,同時再配合添加適當的緩蝕劑和防側蝕劑,提高精密度,再加入再生劑,使得該蝕刻溶液可多次使用。由此,該工藝具有蝕刻速度快,精度高,蝕刻液可再生,制程簡單等特點,具有廣泛的應用前景。
具體實施方式
實施例1
首先按照下述配方配制不銹鋼蝕刻溶液:
三氯化鐵??????????400g/L;
鹽酸??????????????4g/L;
氟化氫銨??????????2g/L;
硫脲??????????????3g/L;
過氧化氫??????????3.5g/L;
次氯酸????????????5g/L。
然后選一不銹鋼工件樣品進行清洗、除油等表面清潔,進而在其表面涂覆感光膠,再按照加工圖樣進行感光膠的曝光,而后進行顯影及堅膜處理,處理完之后則將該樣品浸漬于上述配制的不銹鋼蝕刻溶液中,蝕刻反應溫度控制為25℃,浸漬時間為5分鐘,到時間后將該樣品取出并將其表面剩余的膠膜用堿性溶液去掉,最后用水清洗干凈而得到產品,所得到的產品蝕刻效果明顯且精確,蝕刻深度達到0.15毫米。
實施例2
首先按照下述配方配制不銹鋼蝕刻溶液:
三氯化鐵?????????500g/L;
鹽酸?????????????3g/L;
氟化氫銨?????????1.5g/L;
硫脲?????????????4g/L;
過氧化氫?????????5g/L;
次氯酸???????????5g/L。
然后選一不銹鋼工件樣品進行清洗、除油等表面清潔,進而在其表面涂覆感光膠,再按照加工圖樣進行感光膠的曝光,而后進行顯影及堅膜處理,處理完之后則將該樣品浸漬于上述配制的不銹鋼蝕刻溶液中,蝕刻反應溫度控制為25℃,浸漬時間為4分鐘,到時間后將該樣品取出并將其表面剩余的膠膜用堿性溶液去掉,最后用水清洗干凈而得到產品,所得到的產品蝕刻效果明顯且精確,蝕刻深度達到0.10毫米。
實施例3
首先按照下述配方配制不銹鋼蝕刻溶液:
三氯化鐵???????600g/L;
鹽酸???????????3g/L;
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