[發(fā)明專利]膜層應(yīng)力檢測(cè)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200610119365.1
• 申請(qǐng)日: 2006-12-08
• 公開（公告）號(hào): CN101197299A
• 公開（公告）日: 2008-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何偉明;林益世
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯國(guó)際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/66
• 分類號(hào): H01L21/66
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 逯長(zhǎng)明

1.一種膜層應(yīng)力檢測(cè)方法，包括：

在半導(dǎo)體襯底上形成圖案化的膜層，所述半導(dǎo)體襯底包含對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，所述圖案化的膜層中包含對(duì)位標(biāo)記及/或測(cè)量標(biāo)記；

利用所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記、對(duì)位標(biāo)記及/或測(cè)量標(biāo)記獲得膜層中不同對(duì)位標(biāo)記及/或測(cè)量標(biāo)記對(duì)應(yīng)區(qū)域的對(duì)位操作偏位信息；

確定膜層對(duì)位操作偏位標(biāo)準(zhǔn)；

根據(jù)所述膜層對(duì)位操作偏位標(biāo)準(zhǔn)判別所述膜層中不同對(duì)位標(biāo)記及/或測(cè)量標(biāo)記對(duì)應(yīng)區(qū)域的對(duì)位操作偏位信息；所述對(duì)位操作偏位超出此標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，判定所述不同對(duì)位標(biāo)記及/或測(cè)量標(biāo)記對(duì)應(yīng)區(qū)域膜層應(yīng)力不滿足產(chǎn)品要求；所述對(duì)位操作偏位滿足此標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，則判定所述不同對(duì)位標(biāo)記及/或測(cè)量標(biāo)記對(duì)應(yīng)區(qū)域膜層應(yīng)力滿足產(chǎn)品要求。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜層應(yīng)力檢測(cè)方法，其特征在于：所述膜層包含均勻材料層或混合材料層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的膜層應(yīng)力檢測(cè)方法，其特征在于：所述對(duì)位操作包含膜層間對(duì)位操作及膜層與襯底間的對(duì)位操作；所述膜層間對(duì)位操作包含利用不同膜層中的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行的對(duì)位操作；所述膜層與襯底間的對(duì)位操作包含利用膜層中的對(duì)位標(biāo)記與半導(dǎo)體襯底中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行的對(duì)位操作。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜層應(yīng)力檢測(cè)方法，其特征在于：所述對(duì)位操作偏位信息包含利用曝光裝置進(jìn)行對(duì)位操作時(shí)獲得的不同膜層中的對(duì)位標(biāo)記間的偏差或膜層中的對(duì)位標(biāo)記與半導(dǎo)體襯底中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記間的偏差。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜層應(yīng)力檢測(cè)方法，其特征在于：所述對(duì)位操作偏位信息包含利用對(duì)位檢測(cè)裝置進(jìn)行對(duì)位操作時(shí)獲得的不同膜層中的測(cè)量標(biāo)記間的偏差。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或4或5所述的膜層應(yīng)力檢測(cè)方法，其特征在于：所述對(duì)位操作偏位信息包含在曝光批報(bào)告或?qū)ξ粰z測(cè)批報(bào)告中。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的膜層應(yīng)力檢測(cè)方法，其特征在于：所述對(duì)位操作偏位信息包含二維平面內(nèi)不同膜層中的對(duì)位標(biāo)記間、不同膜層中的測(cè)量標(biāo)記間或膜層中的對(duì)位標(biāo)記與半導(dǎo)體襯底中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記間的橫向、縱向位移偏差及角度偏差表示。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的膜層應(yīng)力檢測(cè)方法，其特征在于：所述膜層應(yīng)力判定標(biāo)準(zhǔn)包括所述橫向或縱向位移偏差均小于或等于10納米。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的膜層應(yīng)力檢測(cè)方法，其特征在于：所述膜層應(yīng)力判定標(biāo)準(zhǔn)包括所述角度偏差小于或等于30度。