[發(fā)明專利]硅基液晶顯示器單元及其形成方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200610119059.8 | 申請日： | 2006-12-04 |
| 公開（公告）號： | CN101196655A | 公開（公告）日： | 2008-06-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 黃河;蒲賢勇;毛劍宏;陳軼群;傅靜;洪中山;向陽輝 | 申請（專利權(quán)）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/136 | 分類號： | G02F1/136;G02F1/133 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 逯長明 |
| 地址： | 201203*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 液晶顯示器 單元 及其 形成 方法 | ||
1.一種硅基液晶顯示器單元，包括硅基片，位于硅基片的像素開關(guān)電路層，所述像素開關(guān)電路層包括一個金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)管；位于像素開關(guān)電路層上的光屏蔽層；位于光屏蔽層上的絕緣層；位于絕緣層上的微反射鏡層，所述微反射鏡層、絕緣層和光屏蔽層構(gòu)成電容器，所述微反射鏡層與金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)管的源端相電連接，其特征在于：所述光屏蔽層接地。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基液晶顯示器單元，其特征在于：所述光屏蔽層中還形成有與光屏蔽層隔絕的連接鏡面墊層，所述連接鏡面墊層和金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)管的源端相電連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅基液晶顯示器單元，其特征在于：所述絕緣層還形成有開口，所述開口內(nèi)填充有導(dǎo)電材料，所述開口內(nèi)填充的導(dǎo)電材料把微反射鏡層和連接鏡面墊層相電連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基液晶顯示器單元，其特征在于：所述光屏蔽層通過像素開關(guān)電路層的通孔和接地墊層相電連接，所述接地墊層接地。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基液晶顯示器單元，其特征在于：所述絕緣層厚度范圍為100至。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基液晶顯示器單元，其特征在于：所述絕緣層為所述絕緣層為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化鉿、氧化鋁、氧化鋯或者它們的組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基液晶顯示器單元，其特征在于：所述微反射鏡層為鋁。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基液晶顯示器單元，其特征在于：所述光屏蔽層為金屬鈦、氮化鈦、鋁銅合金、氮化鈦或它們的組合構(gòu)成。
9.一種硅基液晶顯示器單元的形成方法，包括在硅基片上形成像素開關(guān)電路層，所述像素開關(guān)電路層包括一個金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)管；在像素開關(guān)電路層上形成光屏蔽層；在光屏蔽層上形成絕緣層；在絕緣層上形成微反射鏡層，所述微反射鏡層、絕緣層和光屏蔽層構(gòu)成電容器，所述微反射鏡層與金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)管的源端相電連接，其特征在于：所述光屏蔽層接地。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的硅基液晶顯示器單元的形成方法，其特征在于：在所述光屏蔽層中形成與光屏蔽層隔絕的連接鏡面墊層，所述連接鏡面墊層和金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)管的源端相電連接。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的硅基液晶顯示器單元的形成方法，其特征在于：在所述絕緣層中形成開口，在所述開口內(nèi)填充導(dǎo)電材料，所述開口內(nèi)填充的導(dǎo)電材料把微反射鏡層和連接鏡面墊層相電連接。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基液晶顯示器單元的形成方法，其特征在于：所述光屏蔽層通過像素開關(guān)電路層的通孔和接地墊層相電連接，所述接地墊層接地。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的硅基液晶顯示器單元的形成方法，其特征在于：所述絕緣層厚度范圍為100至。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基液晶顯示器單元的形成方法，其特征在于：所述絕緣層為所述絕緣層為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化鉿、氧化鋁、氧化鋯或者它們的組合。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基液晶顯示器單元的形成方法，其特征在于：所述微反射鏡層為鋁。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基液晶顯示器單元的形成方法，其特征在于：所述光屏蔽層為金屬鈦、氮化鈦、AlCu合金、氮化鈦或者它們的組合構(gòu)成。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
