[發明專利]一種防止研磨液稀釋的化學機械研磨系統及其機臺

無效

• 申請號: 200610118337.8
• 申請日: 2006-11-15
• 公開（公告）號: CN101186024A
• 公開（公告）日: 2008-05-28
• 發明（設計）人: 周海鋒;齊寶玉;丁杰;林保璋;曹軼賓;黃耀東
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;H01L21/304;B24B57/02
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 王潔

1.一種防止研磨液稀釋的化學機械研磨系統，其包括一研磨液供應系統和數個機組，所述研磨液供應系統包括一主循環管路和一控制機臺，由所述控制機臺控制研磨液在主循環管路內循環流動；所述每個機組進一步包括多個機臺；從所述主循環管路引出數條支路分別連接至各個機組；從每個機組的支路再引出多條岔路分別連接至該機組的多個機臺，其特征在于：所述每條岔路上均設有一防逆流元件，防止液體經由岔路和支路回流至研磨液供應系統的主循環管路。

2.如權利要求1所述的防止研磨液稀釋的化學機械研磨系統，其特征在于：所述的防逆流元件采用不和研磨液發生化學反應的材料制成。

3.一種防止研磨液稀釋的化學機械研磨機臺，用于向一晶圓研磨清洗設備供應多種液體，所述的機臺至少包括若干條液體輸送支路和一個電磁閥，所述若干條液體輸送支路的輸入端分別連接至各自的液體供應系統，輸出端相并聯，并連接至晶圓研磨清洗設備；每條液體輸送支路上至少設有一氣動閥，并由所述電磁閥控制所有氣動閥的開閉狀態；所述若干條液體輸送支路中至少有一條是研磨液輸送支路，其特征在于：所述研磨液輸送支路的輸入端設有一防逆流元件，用于防止液體經由研磨液輸送支路回流至研磨液供應系統。

4.如權利要求3所述的防止研磨液稀釋的化學機械研磨機臺，其特征在于：所述的防逆流元件是單向閥。

5.如權利要求3所述的防止研磨液稀釋的化學機械研磨機臺，其特征在于：所述的防逆流元件采用不和研磨液發生化學反應的材料制成。

6.如權利要求3所述的防止研磨液稀釋的化學機械研磨機臺，其特征在于：所述的若干條液體輸送支路中至少還有一條去離子水輸送支路。

7.如權利要求6所述的防止研磨液稀釋的化學機械研磨機臺，其特征在于：所述去離子水輸送支路的液體壓力大于所述研磨液輸送支路的液體壓力。

8.如權利要求3所述的防止研磨液稀釋的化學機械研磨機臺，其特征在于：所述的氣動閥在未收到所述電磁閥的控制信號時，處于常閉狀態。

9.如權利要求3所述的防止研磨液稀釋的化學機械研磨機臺，其特征在于：所述研磨液輸送支路的至少一個氣動閥和所述防逆流元件之間還設有一研磨液過濾裝置。

10.如權利要求3所述的防止研磨液稀釋的化學機械研磨機臺，其特征在于：所述若干條液體輸送支路的輸出端設有一蠕動泵。