[發明專利]有機無機復合膜的回收再生系統及制法

無效

• 申請號: 200610115964.6
• 申請日: 2006-08-21
• 公開（公告）號: CN101130881A
• 公開（公告）日: 2008-02-27
• 發明（設計）人: 劉文斌;巴白山
• 申請（專利權）人: 弁天科技股份有限公司
• 主分類號: C25F3/14
• 分類號: C25F3/14
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 黃健

1.一種回收再生系統，包括用來電蝕刻一工作物的金屬膜層的電解蝕刻設備，該電解蝕刻設備具有：

一蝕刻單元，其具有陽極、陰極和絕緣罩，其中陰極位于陽極的一側，且該絕緣罩罩住陽極以隔絕陽極和陰極；

一工作臺，供承放工作物，以使該工作物的表層面對陽極和陰極；

一電源供應器，具有正極和負極，其分別連接該蝕刻單元的陽極和陰極；以及

一電解液供應源，連通于蝕刻單元的絕緣罩，其用于將電解液連續地注入陽極后，使該電解液再沖刷工作物的表層且沿該表層與陰極間所定義的間隙流出。

2.如權利要求1所述的回收再生系統，其中所述電解蝕刻設備的蝕刻單元和工作臺可相對位移。

3.如權利要求1所述的回收再生系統，其中所述電解蝕刻設備的蝕刻單元還具有一金屬件，該金屬件設于絕緣罩鄰近工作物的末端。

4.如權利要求1所述的回收再生系統，其中所述蝕刻單元的陰極相對于陽極具有較大的暴露面積面向工作物。

5.如權利要求4所述的回收再生系統，其中所述蝕刻單元的陽極具有多個電極棒，該多個電極棒形成一陣列指向工作物，用以加強蝕刻該陽極投影于該工作物的投影區域。

6.如權利要求1所述的回收再生系統，還包括選擇性熔爐和電鍍設備，其中該選擇性熔爐用以通過高溫熔融來使所述電解蝕刻設備的陰極側沉積的電鍍金屬分離出特定熔點的第一金屬，該電鍍設備用以施加特定電壓來使所述電解蝕刻設備流出的電解液電鍍還原出第二金屬。

7.如權利要求6所述的回收再生統，還包括精煉爐，用以將第一金屬和第二金屬精煉為超高純度的金屬。

8.如權利要求1所述的回收再生系統，還包括化學剝離設備，用以化學剝離所述工作物的有機膜層。

9.如權利要求8所述的回收再生系統，還包括臭氧裝置，用以分解所述剝離后的有機廢料。

10.一種回收再生制法用于回收一工作物，該工作物具有一有機無機復合膜，其步驟包括：

電解蝕刻該有機無機復合膜中的一金屬膜層；以及

化學剝離該有機無機復合膜中的一有機膜層。